CN119596644A 掩模仿真图像的获取方法、装置、曝光设备及介质 （光科芯图(北京)科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596644A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202311161079.1

(22)申请日2023.09.08

(71)申请人光科芯图（北京）科技有限公司

地址102399北京市大兴区荣华中路22号

院1号楼31层3101

(72)发明人何柏颉牛志元张瑾轩菅彦彬

(74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理

有限公司11250

专利代理师李静玉

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G03F1/76(2012.01)

G03H1/22(2006.01)

G03H1/04(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图3页

(54)发明名称

掩模仿真图像的获取方法、装置、曝光设备

及介质

(57)摘要

CN119596644A本发明涉及计算光刻技术领域，公开了一种掩模仿真图像的获取方法、装置、曝光设备及介质，本发明首先通过获取的理想波前、光束的空间频率和预设传播距离，对光束传播预设传播距离后在对应平面的衍射图像进行模拟仿真。然后，利用预确定的扰动方式衍射图像进行扰动，以模拟折射率的不均衡分布对全息成像的影响，从而得到仿真图像。本实施例通过上述方式，可简单快速的模拟出仿真图像，体现了其在时间和