2028年原子层沉积（ALD）技术在电池表面修饰中的规模化应用.docxVIP

PAGE2

2028年原子层沉积（ALD）技术在电池表面修饰中的规模化应用

摘要

本报告聚焦原子层沉积（ALD）技术在电池表面修饰领域的前沿交叉应用，系统评估其在2024至2028年间的规模化演进路径。研究覆盖高镍正极、硅基负极及固态电池界面修饰三大核心场景，预测周期为五年。核心趋势判断显示，ALD技术凭借埃米级厚度控制与三维共形包覆优势，正从实验室概念验证迈向工业级量产，预计到2028年其在高端锂电池制造环节的设备渗透率将突破25%，成为解决高比能电池界面衰变与热失控问题的关键使能技术。

报告遵循“环境-现状-趋势-演进-预测-影响-建议”的逻辑链路展开。宏观层面，全球碳中和目标与电池安全法规趋严构成底层驱动力；现状层面，卷对卷空间ALD设备已初步打通工艺验证，但单机产能与成本仍是普及瓶颈；趋势层面，ALD与化学气相沉积（CVD）的混合工艺及批量式设备将主导中短期技术路线。

量化预测表明，在中性情景下，2028年全球电池级ALD设备市场规模将达18.5亿美元，年复合增长率达42.5%。本报告通过构建三场景推演，指出ALD技术的规模化将重塑电池设备价值链，建议产业链上下游加速推进“ALD+CVD”混合设备的联合研发，并前瞻性布局适用于全固态电池的界面修复装备，以抢占下一代电池制造的技术制高点。

第一章报告概述

1.1研究背景与目标

当前，全球新能源产业正处于从“规模扩张”