金属平板前等离子体的电磁波功率反射系数计算分析.pdfVIP

金属平板前等离子体的电磁波功率反射系数计算分析.pdf

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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 *% #% %$$’ #% , , , AB3 )*% @B ) #% +0C0DE0/ %$$’ ( ) #$$$4’%6$7%$$’7*% #% 7’#$%4$( 89:8 ;=?98 ?@?98 !%$$’ 9FG2 ) ;FH1 ) BC ) !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 金属平板前等离子体的电磁波功率反射系数计算分析 ! 苏纬仪 杨 涓 魏 昆 毛根旺 何洪庆 (西北工业大学航天学院,西安 #$$% ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) %$$% ## # %$$’ ( ’ 把金属平板前非均匀等离子体层简化为分层均匀的平板模型,采用等效输入阻抗方法,计算大气或真空边界 入射波的总功率反射系数,分析其影响因素 计算结果表明:电子数密度大小、等离子体层厚度、入射波频率和入射 ) 角是功率反射系数的主要影响因素,适当调整其中任何一个,都可以达到降低功率反射系数的效果) 在低频段,电 子数密度的分布对功率反射系数几乎没有影响;在高频段,电子数密度的分布对功率反射系数有影响 等离子体厚 ) 度、入射波频率、电子数密度分布对功率反射系数的影响几乎与波的极化方向无关) 关键词:等离子体,电磁波,传输 : , , !## *%$+ *%%* %##$, 层介电常数不同的均匀介质平板组成,入射波进入 #- 引 言 介质平板后在上下分界面处发生多次反射) 从合成 驻波方程出发,推导出介质平板的等效输入阻抗,从 等离子体隐身技术是继常规隐身方法之后出现 而获得入射波在等离子体边界面上的总功率反射系 的一种新概念隐身技术,对其研究在国外已有相当 数,分析入射波极化方向、频率与入射角、电子数密 [,] [— ] # % ’ 的历史 ,近几年在国内也受到重视 ) 从理论 度大小及分布、等离子体层厚度对该参数的影响) 上计算电磁波在等离子体中的功率反射系数,分析 % - 微波在非均匀等离子体中传输的等 其影响因素是开展这项工作的重要基础) 国内外已 效输入阻抗计算方法 经有人在这方面开展过研究工作,文献[,]把非均 % ’ 匀等离子体简化为均匀等离子体平板,分别采用 $ % % 金属平板前非均匀等离子体模型 ./01203 公式和散射矩阵方法计算电磁波在磁化等离 子体中的功率反射系数,并分析电子数密度、碰撞频

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