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孔化与电镀 Metallization&Plating 印制电路信息 2010No.10
次磷酸盐化学镀铜体系主组份变化研究进展
周仲承 王克军 易家香 刘 智
(中南电子化学材料所,湖北 武汉 430070)
摘 要 随着对环境保护的重视,以甲醛为还原剂的化学镀铜体系将被环境友好型的化学镀
铜体系所取代。以次磷酸盐为还原剂的化学镀铜体系环保、工艺参数范围大、镀液寿
命长,可能成为下一步的研究热点。对次磷酸盐化学镀铜体系中主要组份含量变化对
沉积速率和镀层性能的影响进行了综述,对其发展方向进行了展望。
关键词 环境友好;化学镀铜;次磷酸钠;再活化剂
中图分类号:TQ0 文献标识码 :A 文章编号:1009—0096(2010)10—0018—04
AdvancesintheChangeofM ainCompositionsofElectroless
CopperPlatingusingSodium HypophosphiteasReducnigAgent
ZHOUZhong-cheng WANGKe-jun YIJia-xiang LIUZhi
Abstraet Withtheattentionofenvironmentalprotection,electrolesscopperplatingusingformaldehyde
asreducingagentwillbereplacedbytheenvironment—friendlyplatingbath.Electrolesscopperplatingusing
sodium hypophosphiteasreducingagenthastheadvantagesofwideoperationrange,long—lifeoftheelectrolyte
andharm lesstotheenvironment,anditmightbethetheresearchfocus.Theadvancesinthechangeofthemain
compositionofthebathwereoverviewed.Thedirectionoffuturedevelopmentofthesodiumhypophosphitepl~ing
bathwasillustrated.
Keywords environmentfriendly;sodium hypOphOsphite:copperelectroless;re—activeagent
化学镀铜具有可在非金属材料表面沉积、无需 险的甲醛蒸汽,对环境和操作人员造成很大危害 。
直流 电源、易在复杂形状工件表面获得均匀镀层、与 人们 己在寻求 甲醛的替代品,如乙醛酸、氨基 乙酸
工件结合力强于 电镀等优点Ⅲ2¨],已获得了快速发展 等_5】.【。而以次磷酸盐为还原剂的化学镀铜也得到了
和广泛应用 ,但其最重要应用仍是印制线路板通孔的 很快发展,AinaHung[8认为 ,这种镀铜体系的工艺
金属化3【】。 参数范围大,镀液寿命长,能 自行限制镀层,环境
化学镀铜液 的基本组成包括 :铜盐、络合剂 、 友好,可能成为化学镀铜的发展方向。
还原剂、pH调节剂和添加荆等。其中可以作为还原 文中对 以次磷酸盐为还原剂的化学镀铜体系各
剂的物质很多4【l,包括 甲醛、二甲基胺基硼烷、次磷 主要成份的用量范围及含量变化对溶液使用性能和
酸盐、肼、低价金属盐、糖等。甲醛 由于还原能力
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