电压衬度像技术在IC失效分析中的应用.pdfVIP

维普资讯 技术专栏 TechnologyColumn 电压衬度像技术在 lC失效分析 中的应用 陈琳 ，汪辉 (上海交通大学 微 电子学院，上海201203) 摘要 ：电压衬度像 (PVC)技术是用于定位集成 电路不可见缺 陷的一种有效的失效分析方 法，结合聚焦离子束 (FIB)精准 的微切割技术 ，可将 PVC技术应用于长金属互连线的缺 陷定 位 。主要介绍 了PVC技术及其原理 ，概述了如何在 SEM和 FIB中应用其工作原理有效地定位 Ic 缺 陷位置 ，并就接触孔 ／通孔缺 陷以及规则长金属导线的失效实例展开讨论和分析。 关键词 ：电压衬度像 ；扫描 电子显微镜 ；聚焦离子束 ；失效分析 中图分类号 ：TN360 文献标识码 ：A 文章编号 ：1003—353X (2008)07—0581—04 ApplicationofPassiveVoltageContrastinIC FailureAnalysis ChenLin，WangHui (SchoolofMicroelectronics，ShanghaiJiaoTong University，Shanghai201203，China) Abstract：PVC isaneffectivefallureanalysismethodinthe invisibleICdefcetlocalization．Withthehelp 0f兀Bprecisemicro—cuttingfunction．PVC canbeusedindefcetlocalizationforlonginterconncetme tals．PVC processnaditsprinciplewereintroduced．nadhow toapplyPVCme thodologyonSEM nad兀B tolocmethedefcet inICwasdescribed．1hefailureanalysisofCT (contact)hole，viadefcet，longmetallinewerediscussednad analyzed． Keywords：passivevoltagecontrast(PVC)；scnaningelectronmicroscope(SEM)；focusionbeam (FIB)；failurenaalysis(FA) EEACC：0170N 的二次电子的发射 ，最终将样 品表面形貌衬度和电 0 引言 压衬度叠加在一起 ，产生明暗对 比比较 明显 的衬度 随着半导体集成电路器件结构的不断发展、工 像的一项技术 。将它与集成 电路 电学特性结合起 艺技术的不断提高和器件尺寸的不断减小 ，半导体 来，根据电路中金属导线层和半导体器件单元上的 集成电路中越来越多的缺陷是不可见的，利用传统 不 同电势 ，能够对半导体芯片进行失效地址定位和 的缺陷检测方法来判断其失效机理并找出失效的物 失效机制分析。PVC是 SEM 的一项基本应用 ，SEM 理缺陷地址变得越来越 困难 。而使用有效 的失效分 是用高能扫描电子对样 品表面进行分析的失效分析 析方法定位缺陷的物理位置，对于工艺线 的改进和 工具，其工作原理是利用 电子束