掺氮氧化硅栅介质对0.13um+CMOS器件1%2ff噪声特性影响研究.pdfVIP

目录 摘 要 .0..… 。..… 。。..… … ，… 。.，，.… 。，，.… ，，… … ，二 ，，… ，1 A b s t r a c t ········… … ，. . … ，… … ，····. . . … … ，… ，，… ，，. ，… … 2 前 言 ··········… … ‘··································… … ‘… … 第 一 章 CM OS 集 成 电路 栅 氧 化 层 发展 的历 史及 挑 战 ·················… … 5 第 一 节 集 成 电路 发 展 的历 史及趋 势 ··························… … 5 1. 1. 1 什 么 是 集 成 电路 ···················… … ”二 ” ” ” ”.5 1. 1.2 集 成 电路 的分 类 ·······················… … ，··… … 1. 1.3 集 成 电路 发展 的历 史 ···························… … 6 1. 1.4 CMOS 集 成 电路 发展 所 面 临 的挑 战 ················… … 10 第 二节 CM0s 集 成 电路栅 氧化 层 发展 的历 史及挑 战 ··········。···… … 11 1.2. 1 CM OS 集 成 电路 栅 氧 化层 发展 的历 史 ·················… … H 1.2.2 栅 氧 化 工 艺在 深 亚微 米 器件 中所 面 临 的挑 战 ··········… … 1 1.2.3 掺 氮 栅 氧 化硅 在 CMOS 集 成 电路应 用 中所 面 临 的难 题 ···… … 3 第 二章 CMOS 器 件 的 1/ f 噪声 ·······················. ·········… … 15 第 一节 噪声产 生 的原理 ····································… … 巧 2.1.1 噪声 的定义 ····… … ‘···················… … ’二‘ ” ’15 2. 1.2 噪 声 的统 计 特 性 ···················… … ’… … ” ” ” 巧‘ 2. 1.3 噪声 的分类 ·····································… … 5 第 二节 CMOS 器 件 的 1/ f 噪声模 型 ···························… … 18 2.2. 1 CM OS 器 件 中 1/f 噪声 产 生 的原理 ··················… … 18 2.2.2 CM OS 器 件 的 1/f 噪声模 型 ························… … 19 第三 节 CM OS 工 艺对 器 件 1/ f 噪声 的影 响 ····················… … 20 第 三 章 栅 氧 化 工 艺对 CMOS 器件 l/ f 噪声 的影 响 ··················… … 3 第 一节 Si一5102的界 面特 性 ·································… … 23 第 二节 栅 氧 化 工 艺对 Si一5102界面特 性 的影 响 ·················… … 24 第 三 节 Si一5 102 界 面 特 性 对 CMOS 器 件 1/ f 噪 声特 性 的影 响 ····… … 6 第 四章 。. 13林m CM OS 掺 氮 栅 氧 化 工 艺 的改进 及 其 在 线 监 控 ··········… … 8 第 一节 常