柔性薄膜太阳电池非晶硅层的激光刻蚀研究.pdfVIP

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2017-09-04 发布于安徽
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第二部分硅基薄膜太阳电池 ·499· 柔性薄膜太阳电池非晶硅层的激光刻蚀研究马宁华陈亮叶晓军刘成陈鸣波 (上海空间电源研究所，上海200233) 摘要采用倍频Nd：W04脉冲激光，对具有Ag／ZnO背反层的柔性非晶硅薄膜太阳电池非晶硅层进行激光刻蚀研究。在激光刻蚀非晶硅的实验中，通过改变激光功率、激光重复频率、扫描速度、聚焦位置等参数，优化激光刻蚀工艺，得到线宽60胛，周围无明显尖峰(3D激光扫描显微镜)，满足薄膜太I,n电池工艺要求的刻蚀线。关键字薄膜电池；非晶硅；激光刻蚀 ResearchofLaser the Amorphous Scribing SiliconofFlexibleThinFilmSolarCells Ma Chen Ye Liu Chen Ninghua Liang XiaojunCheng Mingbo Instituteof Power (Shanghai Space Sources，Shanghai，200233) Abstract a Nd：YV04laser。researchoflaser silicon amorphous Byusingfrequencydoubling pulse scribing siliconthinfilmsolarcellswith backcontactfilm．Inthe offlexibleamorphous Ag／ZnO experiment，by the oflaser rateandfocuslocationandsoon， power，repetition changingparameters frequency，scanning laser siliconfilmWas the technical incised parameters，the scribingamorphous studied．Usingoptimization widthswere 60 werenot neartheincised(3Dlaser btm。there microscope)，and ultimately aiguilles scanning met offacture ofthethinfilmsolarcell． it the precision technology thinfilmsolar silicon；laser Keywords cell；amorphous scribing 少，激光加工材料具有高精度，并可进行有选择性 1 引言