含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电化学性能.pdfVIP

物理化学学报(WuliHuaxueXuebao) December ActaPhys．一Chim．Sin．，2009，25(12)：2427-2432 2427 [Article】 www．whxb．pku．edu．cn 含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强 可见光光电化学性能 李 文 冷文华 ” 牛振江 李 想 费 会 张鉴清 曹楚南1,3 (浙江大学玉泉校区化学系，杭州 310027； 浙江师范大学物理化学研究所，浙江金华 321004 。中国科学院金属研究所，金属腐蚀与防护国家重点实验室，沈阳 110016) 摘要：报道了在含氟的酸性水溶液中，对电沉积制备的WO。薄膜电极进行电化学刻蚀，并采用光电化学、扫描 电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)、紫外一可见漫反射光谱、光致发光(PL)等方法对电极进 行了表征．结果表明，刻蚀使电极比表面积增大，质量减少，重要的是可使电极表面状态发生变化．在相同催化剂 质量和比表面积的条件下，这种变化显著提高了WO。薄膜电极在可见光和紫外一可见光照下的光电转换性能． 机理研究表明，电极光电化学性能提高可归因于刻蚀使电极表面发生氟化，光生载流子表面复合中心数 目减少， 平带电位负移．刻蚀对电极的吸光性质和晶体结构等未检测出明显变化．氟化电极在酸性中具有良好的光电化 学稳定性． 关键词： WO。； 电化学刻蚀；氟化；光 电化学；可见光 中图分类号： 0646 EnhancedPhotoelectrochemicalPerformanceofW 03Film Electrode underVisibleLightbyElectrochemicalEtchingFluorinationin AqueousSolutionsContainingFluorine LIW en LENGW en—Hua’ NIU Zhen—Jiang LIXiang FEIHui ZHANGJian—Qing CAOChu—Nan。 (DepartmentofChemistry，YuquanCampus,ZhejiangUniversity，Hangzhou 310027,P．R．China；21nstituteofP^ysicalChemistry, ZhejiangNormalUniversity，Jinhua 321004，ZhejiangProvince，P．R．China；3StateKeyLaboratoryforCorrosionand ProtectionofMetals，InstituteofMetalResearch，ChineseAcademyofSciences,Shenyang 110016，PR．China) Abstract： Anewandsimplemethodofelectrochemicaletchinginacidicaqueoussolutionscontainingfluorinefor theelectrodepositedW O3thinfilmsispresented．Thesampleswerecharacterizedbyphotoelectrochemistry，scanning elecrtonmicroscopy(SEM)，X—raydiffraction(XRD)，X—rayphotoelecrtons