基于椭偏法的介质薄膜光学常数测量研究.pdfVIP

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2017-08-31 发布于安徽
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基于椭偏法的介质薄膜光学常数测量研究.pdf

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V01．29 第29卷专刊应用光学 Sup． Journalof Dec．2008 2008年12月 AppliedOptics 文章编号：1002-2082(2008)S0-0103—04 基于椭偏法的介质薄膜光学常数测量研究武颖丽9 李平舟 (西安电子科技大学理学院，陕西西安710071) 摘要：类金刚石薄膜是采用脉冲真空电弧镀的方法在底基为N型和P型的单面抛光硅片上沉淀，氧化铪薄膜是采用物理气相沉积法在玻璃上沉淀。利用椭偏仪测量这两种薄膜的光学常数和膜厚，研究发现类金刚石薄膜在可见光波段色散性比较弱；对于氧化铪薄膜，在充入同样的氧气和氩气比例时，电子能量越大，氧化铪薄膜的折射率和消光系数越大。在同样的电子能量下，氧气和氢气的比例中，氧气的比重越大其折射率和消光系数越大。关键词：类金刚石薄膜；氧化铪薄膜；光学常数；椭偏法中图分类号：TN219 文献标志码：A constantmeasurementofmediumfilms Optical basedon method ellipsometry WU Ying—li。LIPing—zhou (SchoolofScience，Xidian 710071。China) University，Xi’an diamond-likecarbonfilm withthemethodof vacuum-arccoat— Abstract：the deposited pulsed is onthe side siliconwhose NandP inggrown singlepolished substratesis model．Hafnium oxidefilmis on Glass constantandfilmthick— grown byphysicalvapordeposition．Theoptical nessofthebothfilmsismeasuredan isfoundthatDLC is by ellipsometer．It rims’dispersion weakinvisible theHafniumoxide theelectronic very lightband；tO film，thebigger energy therefractiveindexandextinctioncoefficientofthehafniumoxidefilm is，thebigger is，when inthesame of and underthesame