电容器级高比容钽粉制备工艺研究进展.pdfVIP

湖南有色金属 第30卷第1期 HUNANNONFERROUSMETALS 2014年2月 电容器级高比容钽粉制备工艺研究进展 杨国启1’3，何季麟1一，郑爱国1’3，罗文1’3，周小军1”，李军义1’3 (1．国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心，宁夏石嘴山753000；2．中色(宁夏)东方集团有限公司， 宁夏石嘴山753000；3．宁夏东方钽业股份有限公司，宁夏石嘴山753000) 摘要：介绍了制备电容器级高比容钽粉的几种工艺方法，比较了均相还原法、电子问接还原法 (EMR)、氧化钽加氯化钙钠还原法、熔融盐电脱氧法(FFC)等几种新工艺的优缺点，并提出了钽粉 生产今后的发展方向。 关键词：电容器；高比容钽粉；生产工艺；进展 中图分类号：TGl46．4文献标识码：A 文章编号：1003—5540(2014)01—0048—05 金属钽是可以在表面生成致密氧化膜且具有单 曾获得广泛的应用。但是用传统工艺电解的钽粉的 向导电性的阀金属。由该金属粉末制成的电容器具 粒型简单、颗粒粗大、比容低，不能满足电子工业对 有化学性能稳定好、电阻率高、介电常数大、漏电流 高容量钽粉的要求。氧化钽碳热还原、五氯化钽氢 小、工作温度范围宽、可靠性高、抗震、自愈能力强和 还原以及铝热还原等方法都还没能用于工业生产。 使用寿命长等优点。由于钽电容器有着诸多的优 而钠还原制备的钽粉具有纯度高、粒型复杂、比容高 点，因此在航空、航天、通讯、计算机、手机等电子设 等特点，已成为国内外制备钽粉的主要生产工艺[卜11]。 备中得到广泛使用。 目前世界钽粉生产厂家主要有美国的Cabot集团、德 在材料分类上，专门用来制作电容器的钽粉称 国的HCST集团和中国的宁夏东方钽业股份有限 之为电容器级钽粉。钽粉根据其使用电压不同又可 公司。 以分为高压钽粉(工作电压50V以上)、中压钽粉 近年来随着电子产品的微型化发展，对电容器 (工作电压25～50V)、低压高比容钽粉(工作电压 级钽粉的比电容提出了更高的要求。传统的钠还原 25V以下)。钽粉在电容器上的应用约占世界钽总 工艺由于还原温度高，已越来越不能满足未来市场 消费量的60％～70％¨曲J。尤其是近年来，随着计的要求。于是开发一种成本低、比表面积大、比电容 算机和电子工业的迅速发展，对钽的需求量一直保 高的钽粉制备新工艺是今后研究的一个重点。以下 持着稳定上升趋势，叮以预计在今后的5～10a内， 将对国内外现有的几种电容器级钽粉制备方法的优 全球钽工业将以每年15％以上的速度继续发展，其 缺点进行比较并提出了电容器级钽粉生产今后的发 中低压高比容钽粉因其较高的比电容量和较低的价 展方向。 格在电子等民用领域用量很大，占电容器用粉的 80％左右，本文将围绕该类钽粉进行其制备工艺的 l 电容器级高比容钽粉的制备方法 分析。 1．1氟钽酸钾钠还原法 钽粉的规模化生产已有70多年的历史，但大规 氟钽酸钾钠还原工艺是采用K：TaF，和Na为主 模高速度的发展只有50a左右。早在1904年，人们 要原料，用NaCl、KCI等卤盐或卤盐混合物作稀释剂 就曾经用碳还原五氧化钽，还原产物经真空高温精 制备出电容器级钽粉的一种方法，其主要反应机理 炼，获得了世界上第一块具有延展性的钽锭。后来 如下： 发展起来