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- 2017-08-15 发布于安徽
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用场发射显微镜研究单壁碳纳米管场发射
韩建平张兆撵侯士敬赵凝钰潮椎敏薛增寰
(j£衷大学电子学系)
耱祖进顾镇南
(就隶大学化学与分子工程学院)
1引富
管状结擒。摹壁璇雏米管懿典型管径在0.7~t.4nm,多壁碳纳米营鹩管镪薅罄数葺鞋闯簸不
同,从十几到几十纳米不等,它们弱长度通常在微米量缀以上。单壁碳纳米管的臀径_秘卷
曲方向,决定了其电导特性属于金属型或者半导体型。单壁碳纳米管被认为悬一种很有希
擅的缡米电子橱辩。芷日蔬成为人霄j研究的热点。
碳鳓米警懿独特瓣多}形,崴学特性。以及缀好静他学稳定搜和规攘强度,使褥宅逶子
熙佟场发射电子源。对碳纳米管薄膜、孤立的多壁碳纳水管、单壁碳纳米管管束的研究表
明:和传统金属材料钨相比,碳纳米管的场发射具有开启电眶低、工作真空度要求不商及
发射稔定等优点。僵愚在这些实验中,由于酸纳米管稃晶不纯和吸附的影响,有塑实验结
果之耀存在一定差鼹,Dean等人指如,崔室湿下碳绒米警场发射电流主簧来源予样熬衷
题吸附气体分子,只有经过充分除气,才可能对碳纳米管真实场发射特性以及吸附对场发
射的影响有更深入的了解。
我们的实验利掰场发射显檄镜(FE脚在小于4.O×10弧压强的趣离囊空条件下研究了
萃壁碳纳米管徽募豹场发射:获{寻势观察了场发射圈像;用电淡电羼的l-v关系魁线秘豳
定场发射电流条件下电压随加热温度变化的、Ⅵ曲线,研究了不同濒度加热陈气质,单壁
碳纳米管场发射和逸出功的相对变化规律。
2实验装爨
真空系统用机械泵和溺轮分子泵机缀作为预抽泵,主泵是溅射离子系,真空系统的极
方法矮蚀成针失,钟尖与荧光羼距离约为4,0cm,通过W{踺逡漉稳流电源越针尖加热除气;
灯丝温度高于800℃时。用光测离温计标定。
单壁碳纳米管样品用电弧法合成,经过纯亿簸瑾盛,革壁管含纛达80%。将磺管鬣于
无承乙醇中,怒声链理2—3夺爵,痰为撼色溶黢,依靠蓬氏力将其缎装到坛发射最擞穗针
尖上。场发射显徽镜封入囊空系统,系统玻璃部分经300C烘烤lO小时蕨,工作援强小于
4.0x10‘7pa。
高舔电源可醴在0-10kV范围内调节针尖和阳极乏阔静电蕊。墒发射蘅像用辎梳拍摄
轻CCD摄像头摄墩。遴瓣电镰(TEND照拷在JEM-200CX土获樽。
3结果和分析
3.1场发射鼹像麴褒察
实验中获得的单壁碳纳米营场发射图像具脊明照特征,大多为一墼圆形或椭圆形亮斑。
在室温未除气时,图像基底上有许多不断变化的亮点,它们是一些吸附分子的场发射图像。
此时来源于这些吸附分子的场发射电流占主导地位,在电场作用F,这些气体分子不停地
脱附和吸附,场发射电流因而也不稳定。我们通过灯丝对场发射显微镜针尖上的样品加热,
单壁碳纳米管表面吸附分子受热脱附,随着除气温度的上升,原来的一些发射中心消失。
清洁单壁碳纳米管的场发射图像逐渐显露出来。场发射电流变得非常稳定。经过小心除气。
荧光屏上图像只剩F一个亮斑。从图像中可以看到椭圆形的轮廓范围内有一些清晰的具有
明暗反差的细致结构。Dean等人认为它所反映的是封闭的单壁碳纳米管顶端的电子结构。
我们可以设想在一束单壁碳纳米管中,很可能存在某根碳管比较突出的情况。这时候在它
顶部的电场相对较强,场发射电流几乎完全来自于这根单壁碳纳米管。为了准确测量单壁
碳纳米管场发射电流随除气温度上升的变化规律,另选一样品测量了电流电压关系。
3.2加热除气过程中场发射电流的测量
场发射电流密度i遵守Fowler-Nordheim公式
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‘L /£J
其中j=I/S,E。13V,S是发射区面积,B是场增强因子,中是逸出功。实验中实际测量的是总
条件F其斜率K。c中”。
实验中逐步升高灯丝温度对单壁碳纳米管加热除气,然后在室温时测量了单壁碳纳米
除气温度的上升,各条F-N直线斜率F经
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