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有机锡化物(c·H8S。Sn、CoH。。N:S。sn)电子结构
的密度泛函研究
张明昕李俊锰黄听项生昌李奕肖海彬
(福州大学化学系,福州,福建,350002)
(结构化学国家重点实验室,福州,福建,350002)
自从50年代有机锡化台物由实验室走向工业化以来.有机锡化学目益繁荣。在这个领
域·每年都有大量的研究论文发表。时至今日,有机锡化台物已广泛地应用于催化化学、
有机合成化学、药物化学、PVc稳定剂、防污涂料、术材防腐等领域。有机锡化台物在催化
台成领域的应用在70年代末80年代韧发展起来的。其近年的发展己受到广泛关注”“。因此
本文对c4H8s—Sn以及新近合成的C出-6N2Stsn等有机锡化合物进行优化计算和频率计算.并
与实验构型对比,分析其电子结构等性质。
1计算方法
本文采用Oaussian
c6H16N2s·sn构型进行构型优化和电子结构计算。其构型示意图见图1。
田I有机镥化暂(c·H-S.Sn、C‘H16N2S4Sn)实验柑垂与优化后构查示t圈
优化前 优化后 优化前 优化后
C·HBs4Sn C6Hl洲2S4Sn
2计算结果与讨论
(一)优化构型及其电子结构:
表1c|IIls|sn在不同基姐下的主要计算站果
l Basicsct LUMO HOMO ‘△£ El。】
(mul (a’u1 (B.u3 f丑u.1
I 。B3LYP/3.2IG.0.12229 } .0.23941 【0ll
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I B3LYP/3-21G’-0.06023 —0.24204 0.18培1 .774l2235932
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B3LYP/3.12G.0.03505 7272 .7930.2639273
B3LyP付.12G●-O.O¨77 .019770 0.18593 .79307617129
均低于上述能量。图2为C4HlS4Sn和c6H1科2S‘Sn的计算频率示意图。
叠2cdrltS4Stt、GHl,N2S4Sn的蠢率示童圈
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