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.224- 工科曲理增翻 姗年
用椭圆偏振法研究c,2Ⅳ薄膜氧化层的厚度
陈庆东汤正新 成蜩
(洛阳工学院471039,桂林电子工业学院s41004)
囊耍采用空止溯极放电茸孚镀(HcD)技术,在硅基片上沉积cr,H薄膜.用栅侮陡研究了
。c÷一礴曩|j盎走气环境里巯o,c的爱度下,氧化屡犀崖髓时间的变化关系.
‘
关键词cr:H薄膜抗氧化性椭信丰、
十几年来,耐磨损抗腐蚀层在工业生产中的应用不断增加。已成功应用于机攘加工刀
具超高真空部件航天装饰等领域.、量着追的是妇f和麓僻,q蕞屠.他量了具有趣强的硬度
及可靠的热稳定性能啪。近年来发现olN镀层也具有高的硬度和好的耐腐蚀抗氧化等特
抗氧化性能明显优于1iN薄膜。本文莉用椭偏方法对由空心阴极赢子镶制备的Q斟薄膜在
大气中的氧化性能傲些研究。
1样品爿鲁
Ca山odc
采取H¨00型空心阴极离子镀棚buaw Discllar弘)制各cr州薄膜,镀膜参数如
射时间:5min.眦D枪功率:50y×160A,基板负偏压:一40矿.氩气分压:0.38只口.氯气分
压:o.嘶6P矗,沉积时间:20min.将该样品在大气环境里退火.退火温度600佗度.
2童化赢覃度舅定
麓圈偏撮测量时,利用偏振态的P光和s光界
面蛾■黛土反射城迸射时出现醣傅撅卷的改芟来计
算特嗣的基本光学参数.取如图l所示模型.Q料
尊糜作藩镶妇燃底.实验采用协77囊柑_嘲
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P,S在界面2上的复菲涅尔反射系数,占为光经过Ck籼上、下表面产生的复相位差.
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多的约柬方程,采用多角度入射可得到一系列约束方程:
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