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潜影稳定剂结构分析评述 欧阳贵平刘扬杨学富 卤化银蓐光材料的照相感光过程是卤化锃徽粒晶体吸收光后，在晶体中产生游离电子和游 离孔穴，生成的陷阱使电子与银离子结台后促进镶的生长，同时也产生和释放卤素。经过一系 列的卤化银化学反应变化后，生成一种不可见的影像，这种影像只有在显影后才成为可见的影 像．卤化银感光材料■光后形成的不可见影像叫潜影。 潜影经显影处理后可得到我们所希望见到的记录影像。然而，显影荆只选择性地还原含有 潜影的卤化根鬣粒。因此潜影的性能与我们所得到的可见髟像至关重要。潜影的生成是囟化银 感光材料曝光后光化学反应后生成的，这种光化学反应有一定的可逆性，因此潜影不是长期不 变的，在一定的外都条件下，受到氧、水以及热等因素的影响，所生成的潜影就会衰退。以至 于在显影后导致感光度和影像密度的损失。如粟卤化银感光材料在●光后尽快显影，则潜影的 衰退靛根徽小，不是大闷题。但对于许多摄影者而言．往往胶片拍照之后一段时间才进行显影 处理．为了达到所记录的影像信息能真实地表现出来。这就要求豫光后形成的潜影有较长时间 的稳定性．以保证一段时向后星髟能再现所记录的影像，因此研究如何偷使卤化搬感光材辩在 生成潜影后有报好的稳定性．防止其褒退就显得更为重要。 ：本文藏防止和减少潜影衰退的有机钫一潜影稳定剂近二十年来的主要有机物的结构及性 能特点进行了分析。按结构特点不同归纳了21类用作潜髟稳定剂的有机物，并对文献报道中 具有优良港影稳定性的化合物及其应用结果给l；I报道比较。J 根据文献报道的情况．可用于作潜影稳定剂的有机物可主要归纳为以下的类型： 1 IF-取代烯两类苯{嚏哇和蘩并t瞄鳖羹化合格 二帑蔓。。留X- 铲、R7：H、低级烷基、低级烷氧基等；舻、Ⅳ可形成环状物或芳环；g-为阴离子。 3754478中报道了这类化合物用作卤化 富士公司在日本公开特许公报昭60-94918及USP 银蕃光材料的潜影稳定剂。瞻较有效地防止潜影衰退． ¨ ，． 畋： CE2--CH--CRz 在金增感的^g(BrI)乳{flf中使用，对照与不加该化合物所得的胶片，曝光后立即显影 和lO 作用。 曝光后即捌显髟 10天后显髟 来加化合街I 100 。 80 加入化台物I l∞ 160 2 2一位来被取代的卜爝丙基■嚏镰盐粪化台樯 ≮一魄埘 R1—R6：为1-1、照相有用的取代基； Rl—科：为H、烷基等；铲、萨；为H、烷基、烷氧基、吸电子基或5、6元苇芳香环； x+：为阴离子。 一19一 Minnesota Mini电andMfgCo．在日本公开特许公报昭62-262@41中报道，在多层彩色 片的乳剂制备中加入这类噻唑龋盐化合物作为潜影稳定剂，可防止潜影衰退。 3 2一位丙炔氯基取代的革并恶睦、曩睦、焉嚏类化台物 一一、一，嗤、 i i)一Z—CHrcmmCH ‘ ；一人、H矿 x：为0、S、Se或一^一： Y：表示可形成芳环的原子： R R z：为—a毛肘一、—鲁一； R：为H、Cl{的低级烷烃 Disc