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蔡殉等:可调的透明导电膜研究进展
可调的透明导电膜研究进展木
蔡殉
(上海交通大学材料科学与工程学院,上海200240)
摘要: 简述了透明导电薄膜材料,特别是对目前研 大屏幕、高分辨显示器的问世,低阻的透明导电膜作为
究比较活跃的透明导电氧化物(TcO)及金属基复合透
明导电多层膜的发展现况和趋势;同时从选材、膜层设 导性因其半导体导电机制的关系,其理论最佳电导率为
计、制备方法到工艺制定,研究透明导电膜光电性能诸
多影响因素和规律,探讨ⅨM/D多层膜的微观结构与 限制。何况,铟(hI)在自然界属稀贵金属,其资源稀
其光电性能的内在联系,以及多层膜的热稳定性和界面 缺,IIl矿的品位又很低,生产成本高昂。因此,就迫切
反应等问题,并采用电介质Ti02与金属Ag交替生成
需要寻找光电性能更佳、制造成本更低的透明导电膜。
Ti02,Ag厂ri02三明治结构制备了几种具有优异光电性
在降低氧化物透明导电膜(TCO)的电阻和生产成
能的透明导电膜。经优化设计的纳米多层膜具有奇特的 本方面,尽管后来开发的掺杂的ZnO:础(zA0)、
光电性能可调性,根据需要,用于平面显示器透明电极,
太阳能电池板等的在可见光区具有高的透过率(瓦50≥
90%)和在红外光区高的反射率阮500≥90%),其方块电
前为止,所有开发的新型氧化物透明导电膜载流子浓度
阻仅为5剑sq;而用于紫外固化的则在紫外固化的主峰
365nm处具有高的透射率(乃65≥80%),而在1600nm的
红外波段反射率也超过了90%. 材料。因此,我们认为要进一步降低透明导电薄膜的电
关键词: 氧化物透明导电膜;D/M,D纳米多层膜:光 阻率,提高其光学性能应另辟蹊径。
电性能;微观结构;可调性 从导电的角度,金属导电性好,如Ag和Cu的电
中图分类号:0484.4+l;1M24文献标识码:A 阻率比IrIO的低近两个数量级,然而金属一般只有当其
文章编号: 1001.973l(2007)增刊.0001.06
1 引 言
侧均沉积一层~定厚度d(纳米数量级)的高折射率n
近年来随着平面显示器、太阳能电池、低辐射窗、 和电阻率p的介质膜(D)。从薄膜干涉理论得知,当
电致变色窗、热镜和薄膜电池的发展,均需要透明的导 膜的厚度是入射光在该介质中波长的1,4时,在薄膜两
电薄膜材料。透明导电薄膜不仅应具有很好的导电性 个面上反射光的光程恰好等于半个波长,从而相互干涉
能,还应在特定光波区段内,如在可见光区甚至扩展到 而抵消,这就大大减少了光的反射损失,增强了透射光
紫外光区均具有高的透过率和对红外光波反射性能…。 的强度,起到了增透作用。选择合适的介质,z和d值,
可起到很好的增透作用。因此,利用金属膜的高导电性
20世纪60年代,掺Sn氧化铟薄膜In203:Sn(n’O)
由于具有在可见光区高透射率(~85%)和较低方块电阻和介质膜的增透作用,电介质,金属,电介质(D/M/D)
(~10触q),而且还具有良好的刻蚀性,因此,rrO纳米多层膜中的每层各自发挥其优势,从而使它具有比
作为主要的透明导电材料而被广泛应用。随着国民经济 I.ro更优良的综合光电性能【7曲】。
的迅速发展,人民生活水平不断提高,平面显示器正向 透明导电薄膜不仅具有在可见光区的高透射率,某
大屏幕、高清晰度方向发展,对透明导电薄膜的光电性 些场合下还要求它具有透紫外反红外的功能。众所周
能也提出了更高要求,而平面显示器的可驱动尺寸直接 知,紫外固
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