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水流场PIV流场显示与分析系统实验研究 阮驰，孙传东，白永林，王屹山，门海宁，刘明利 (中国科学院西安光学精密机械研究所，瞬态光学与光子技术国家重点实验室，陕西西安710068) 摘要：粒子图像测速技术(PIV)是一种新型的流场测量技术，通过测量被测流场截面上每一位 置点的速度，可获得整个被测流场的信息。PIV系统综合了超短脉冲激光技术、数字信号处理技术、 芯片技术、计算机技术、图像处理技术等多种新技术，是研究涡流、湍流等复杂的流动结构的有力 工具。PIV水流场测试中示踪粒子特性对测量结果影响很大，需要对此进行研究以选择合适的实验 粒子。针对PIV离轴测试方式分析了这种测试方式对PIV系统的光学成像系统、示踪粒子选择和粒 子图像处理带来影响，实验探讨了采用Scheimpflug离轴聚焦的方法对表面镀银高反射率的示踪粒子 进行成像，并利用网格校正板和软件计算处理等方法校正离轴测试带来的影响。实验结果表明该系 统能够获得较好的流场测试结果。 关键词：粒子图像测速；离轴测试；示踪粒子；Seheimpflug 1引言 粒子图像测速技术(PIV，Particle Image 技术通过跟踪流场中的示踪粒子，在流动显示技术的基础上利用图像处理技术来判断流场速度的大 小和方向【¨。PIV技术的重要特点是能够记录下整个测量流场平面的有关信息，同时能够获得流场的 瞬时信息，因此PIV技术非常适于研究涡流、湍流等复杂的流动结构12]。PIV流场测试同时具有整 体性和瞬时性的特点，可定量测量出流场中某一被测截面上所有点的速度分布，并且能达到与单点 测量仪器相当的空间分辨率：测量结果同时也是流场瞬间状态的反映，因此PIV能够获得流场在快 速变化过程中的细节。 目前PIV系统通常采用CCD做为图像接收装置，实现了数字化，这样的系统又称为DPIVt3】 PIV)b (Digital DPIV系统一般包含双脉冲激光源、双曝光CCD、同步控制机、处理软件和示踪粒 子与投放装置等五个组成部分。水流场PIV测试时通过在被测水流场中投放合适的示踪粒子，利用 CCD等成像系统获得曝光后的示踪粒子图像，再对图像进行处理与分析，从而获得流场分布情况。 被测的流场可用许多点的速度矢量箭头表示，其中箭头的大小表示该点速度的大小，箭头的方向代 表该点速度的方向。测试中所使用的示踪粒子的特性对整个PIV系统的测量结果影响非常大，特别 在定量测量时更是如此，因此需要选择合适的粒子进行示踪。文中还探讨了离轴PIV测试方式，此 时CCD成像方向与片光方向不垂直，呈一定角度。离轴测试方式相比正入射测试方式对PIV的光学 系统、示踪粒子特性、软件处理方式都提出了新的要求，有必要对这种工作方式进行研究。 2 PIV原理简介 (X2，Y2) PIV测量时先在被测流场中均匀投放示踪粒 子，利用满足流体跟随性的粒子的运动来代表当 地流场的运动状况，通过二维激光片光照亮流场 r0 v ‘ 中的某一被测区域平面内的粒子，再通过连续两 次或多次快速曝光，将粒子的图像记录在CCD 相机上，对粒子图像进行相关计算就可获得该区 域内瞬时流场的速度分布。 图1粒子运动测速原理示意 速度测量的原理如图l所示，粒子图像上， 时间间隔△t非常小时，粒子可认为做匀速运动，其速度V近似为 一343— Ⅳ：lim圣=互≈些1，：lim生当≈些 12--l。tI At At f2一tI ．13--!。ltf2一tI 其中材为速度V的X方向分量，v为Y方向分量。 实际的粒子速度计算时则需要考虑光学系统放大率，即有 U=u／M V=v／M (2) 必为放大率，即观测流畅实际区域与成像平面之比。