化学溶液沉积法制备 BiFeO3薄膜的结构及性能研究.pdfVIP

第54卷 第 1期 中山大学学报 (自然科学版) Vo1．54 No．1 2015年 1月 ACTA SCIENTIARUM NATURALIUM UNIVERSITATIS SUNYATSENI Jan． 2015 DOI：10．1347／j．cnki．acta．snus．2015．01．016 化学溶液沉积法制备 BiFeO3薄膜的结构及性能研究 陈如麒 ，朱贵文 ，徐初东 (1．华南农业大学公共基础课实验教学中心，广东广州510642； 2．广东药学院基础学院物理与电子学教研室，广东广州 510006； 3．华南农业大学理学院，广东广州 510642) 摘 要 ：采用化学溶液沉积法在ITO玻璃基片上制备铁酸铋BiFeO，薄膜。薄膜呈纯钙钛矿结构，无杂相生成。 此外，薄膜表面光滑致密、没有微裂痕。薄膜得到的晶粒尺寸较小，约为45nm。在 550oC1h退火的薄膜有 良 好的电学特性，在 1kHz频率下测得的相对介电常数、损耗 因子分别约为 198、3％；此外，在 760kV／cm 电场 驱动下，薄膜得到的剩余极化 (2P)约为25~C／cm ，矫顽电场 (2E)约为650kV／cm。BFO薄膜在550℃退 后，通过吸收光谱分析得到BFO薄膜的光学带隙为2．7eV。这些结果表明，退火温度550℃制备的BiFeO 固溶 体薄膜具有较好的性能，有望成为光电器件的候选材料。 关键词 ：化学溶液沉积法；BiFeO，；相对介电常数；损耗因子；光学带隙 中图分类号：0484 文献标志码：A 文章编号：0529—6579(2015)01—0079—05 StructuralandPropertiesofBiFeO3ThinFilm Using aChemicalSolutionDepositionM ethod CHEN Ruqi，ZHU Guiwen ，XU Chudong (1．CenterofExperimentalTeachingforCommonBasicCourses，SouthChinaAgriculturalUniversity， Guangzhou51046 2，China； 2．SchoolofBasicCourses，GuangdongPharmaceutical University，Guangzhou510006，China； 3．CollegeofScience，SouthChinaAgriculturalUniversity，Guangzhou510462，China) Abstract：BiFeO3(BFO)thinfilmswerepreparedonITOglasssubstratesusingachemicalsolution depositionmethod．Thethinfilmsexhibitedpureperovskitestructure，nosecondaryphasewasobserved． Meanwhile，theyweresmooth，denseandcrack—freewithsmallgrainsizeofabout45nm．Goodelectrical propertieswereobservedinthefilmsannealedat550℃ for1h．Therelativepermittivityandthedissipa— tionfactor(at1kHz)were198and3％，respectively．Drivenbyaelectricfieldof760kV／cm，BFO showed2P 0f25 IxC／cm and2E of650kV／cm．TheopticalbandgapofBFO thinfilmswas2．7eV． The