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氧化铝祓合髑媒之合成舆催化性臭氧化降解草酸之研究
王裕翔、睐威廷、割俊佑、丁士萌、丘修豪、睦基主:
屏柬科技大擘瑗境工程舆科攀系
台湾屏束躲内埔绑学府路1豌
E-mail:kcchen@mail.npust.edu.tw
摘要
acid)溶液,探讨2獯祓合金届桶媒之特性和组成,以及不同金属裎合比例舆桶媒添加削量封
於草酸去除效果之影孥。研究探用半连续武(semi—continuousmodel)反魔槽,毅定之臭氧氯髓
演度乌lOmegL,氟髓流速焉100
method)将搪硅和戴醴合成,以溶谬-凝醪法(so-gel
成份之特性分析项目包括等雹位黠0H一、酸埝官能基、抒描式雹子颓微镜(SEM)和X光统射
模式模凝之相阴性僵於Langmuir模式,颓示此2獯祓合金届蹋媒於溶液中封於吸附草酸之特
性,主要以多屑吸附现象鸯主。而以不同的金属混合比例所配裂合成之馥合金属桶媒魔用於
臭氧化去除草酸之赏验凳现,草酸之去除效果畲随著檐髓比例增加而上升,亦随著祓合金属
镯媒剂量之增加而提高。而在相同的馥合金属添加割量下,以MnOx/A1203馥合金届阕媒用於
催化性臭氧化封於草酸之去除效果僵於使用)-Fe203/A1203祓合金属桶媒。
阴键嗣:催他性臭氧化、草酸、等温吸附、中孔氧化铝、馥合金属
114
一、前言
近年来,赓水中持久性有橇污染物(persistent
organicpollutants)污染壤境的明题日益葳
重,因鸯逼颊的污染物不易被傅统赓水庭理程序去除(生物、物理和化晕庭理)。因此,高级
oxidation
氧他庭理程序(advanced
乌高级氧化庭理程序之一,被庚泛地逗用於磨水和歙用水庭理程序。而臭氧化舆有械污染物
的氧化反魔,可分岛直接反庶(direct
氧舆有械污染物氧化反庶;而嗣接反虑则岛臭氧缝遇链锁反虑(chainreaction)後,焘生出更强
氧化能力之氢氧自由基(OH·)造行氧化有械污杂物。然而,由於臭氧化封於有槭污染物具有
送择性反魔,以及覃揭臭氧化所焘生之氢氧自由基演度有限,大幅限制臭氧化庭理之效果舆
餮展。
ozonation
catalytic
吴相催化性臭氧化庭理程序(heterogeneous process,HCOP)是近年来新
颖的庭理技衡,其主要是利用金属雄子或金属氧化物作乌催化髑媒,催他臭氧反虑生成更多
and
强氧化能力之OH·氧化有械污染物(Nawrocki
et
究指出,使用吴相催化性臭氧化庭理能到颠著的提高氧他的反虑速率(Chena1.,2009)和提高
and
Choi,2006)。较早畴期,金届桶媒的獯颊皆运用单一金届氧化物
Rct值(【OH·]/[03])(Jung
and et
迨行催化性臭氧化赏验,譬如氧化锌(ZnO)(Jung
et et et
a1.,1998;Villasenora1.,2002)、氧化绒(Fe203)(Beltran
合躅媒,蓝且研究迨一步蚤琨,祓合金属桶媒比罩一金属桶媒更具有催他臭氧之能力
et et
(Gruttadauria a1.,2009)、
a1.,2007)。其中,常见
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