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反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片.pdf
第36卷第8期 中 国 激 光 V01．36，No．8
2009年8月 CHINESE0URNAL0FLASERS August，2009
J
文章编号：0258—7025(2009)08—2144—06
反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片
宋秋明1’3 黄 烽1 李 明1 谢 斌1 王海千1 姜友松2 宋亦周2
1中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室，
USTC-SHINCRON先进薄膜工艺材料联合实验室，安徽合肥230026
2SHINCRON株式会社品川东京114—0011日本
3中国科学院深圳先进技术研究院，中国科学院香港中文大学深圳先进集成技术研究所，广东深圳518055
摘要 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件，其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具
有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射T艺，改变沉积SiQ(o≤z≤2)膜氧化程度，获得折射率从2．74逐渐
变化到1．58(X=1550rim)的Si(x渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层一外部介质折射率匹配
层，成功地设计并制备r具有较好光学性能的siq渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶
材，通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法，为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线。
关键词 薄膜；渐变折射率；梳状滤光片；反应磁控溅射；Siq
中图分类号0484．1文献标识码A doi：10．3788／CJ2144
GradedRefractive—Index Filter
Si0善InfraredRugatePrepared
Reactive
by Sputtring
Magnetron
Li XieBinl
SongQiumin91·3HuangFen91Min91
Yizhou2
Song
WangHaiqianlJiangYouson92
1 Joint Advanced
National for ScienceatMicroscale。USTC-ShincronLaboratoryfor
Hefei LaboratoryPhysical
ThinFilm Scienceand of 230026，China
TechniquesMaterials，Universityof TechnologyChina，Hefei，Anhui
2
Shincron
Co．，Ltd。Shinagawa-KuTokyo140—0011，Japan
3
ShenzhenInstituteAdvanced InstituteAdvancedTechnology，
CAS
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