低硅低钠氧化法电熔AZS的开发与应用.pdfVIP

低硅低钠氧化法电熔AZS的开发和应用 淄博旭硝孑电熔材料有限公司王海为黄泽宏 摘要：本文介绍了低硅低钠氧化法电熔AZS的开发过程，性能指标和其王要用途。由于S[02和Na20含量的减少．使 得玻璃相含量减少，质量改善．玻璃渗出量降低。因此，用于玻璃窑炉上部结构．可降低由于玻璃相渗出而造 成的侵蚀和对玻璃液的污染。 关键词：玻璃相渗出、侵蚀，玻璃缺陷 1．前言 众所周知。长期以来氧化法电熔AZS因其优异的抗侵蚀性能和杰出的对玻璃液的低污染性而广泛 应用于轻工、建材、电子等玻璃窑炉。 近几年来，玻璃行业的发展呈现以下的趋势： 1)由于玻璃行业的技术进步，玻璃窑炉向大型化发展．炉龄加长．玻璃熔化和澄清温度提高； 2)随着全氧燃烧技术的完善，全氧燃烧窑炉将是玻璃窑炉的发展趋势之一。 3)社会对玻璃产品的质量需求越来越高．如高档浮法玻璃、大型玻壳、液晶玻璃等高档玻璃的 发展对玻璃产品提出了更高的质量标准。因此，如伺适应更高的玻璃质量标准、最大限度地 降低玻璃缺陷是玻璃行业的技术课题之一。 玻璃窑炉的以上发展．带来的后果之一是窑炉的火焰空间温度提高．使得玻璃窑炉上部结构用氧 化法电熔AZS的使用条件越来越苛刻，对其质量和使用性能．尤其是在抗侵蚀和对玻璃的低污染 方面提出了更高的要求。 2．氧化法电熔AZS的使用性能 氧化法电熔AZS由于是采用高温熔融、铸造的制造工艺，因此。砖中的晶相是通过熔体冷凝过程 中析晶产生的，在冷凝析晶过程中．Zr02和A1203析晶生成了斜锆石和刚玉晶相，并且，二者大部 分是以斜锆石-MIJ玉共析体的形态存在，成为了砖中的骨架结构。随著温度的下降．析晶结束．Si02 结耐火材料不同的结构．其晶相发育完整。排列紧密．使砖的结构致密．气孔少．具有优异的使用性 能。 传统的氧化法电熔AZS按Zr02含量的不同分为3个品种．其代表性的化学组成和晶相构成如下： Zr02含量 化学成分％ 晶相组成％ ％ Zr02Si02Na20Fe203Ti02A1203 牌号 斜锆石 刚玉 玻璃相 }33％ZA一33 33 i4 1．3 0．12 0．10 余量 32 5l 17 36％ ZA一36 36 14 l 8 0，12 0．J0 余量 35 48 l 7 d1％ ZA4l 41 1 2 1() 0 2 ()．10 余量 40 45 15 169 对于玻璃窑炉耐火材料的选用来讲，主要有二方面的使用要求．～是对耐火材料使用寿命的要求。 以确保窑龄：二是耐火材料对玻璃质量的影响．即对于耐火材料在玻璃中产生气泡、结石、条痕，着 色、玻璃结等缺陷的趋向的要求。不同的玻璃产品和玻璃窑炉对以上二方面的使用要求也是不尽相同 的．因而在耐火材料的配套选用上也不同。 作为氧化法电烙AZS，针对以上二个使用要求，主要通过三个使用性能指标来具体地体现和衡量。 1)耐侵蚀性：抵抗玻璃液的冲刷、化学反应等所造成的侵蚀的性能．盲接关系到窑炉的寿命。 2)玻璃相渗出：砖中的玻璃相在高温下台软化而渗出。玻璃相渗出后，一方面．如进入玻璃液 中而不麓与玻璃液熔为一体的话，就会形成玻璃结等缺陷：另一方面，玻璃相渗出后会使砖 内部的骨架结构遭到后续而来的玻璃液、碱蒸气、配合料粉尘等的冲刷和侵蚀而被破坏。 3)发泡性能：砖中含有少许的发泡性物质(如碳和不饱和氧化物)．在高温下会产生气体并随着 玻璃相的渗出而进入玻璃液中．在玻璃制品产生气泡缺陷。 由此可见，玻璃相渗出性能既关系到砖的耐侵蚀性，也直接影响到玻璃产品的质量。 3．低哇低钠氧化法电熔AZS的开发 对玻璃窑炉的上部构造使用的氧化法电熔AZS来讲．根据使用部位的不同．主要遭受到碱蒸气、 配合料粉尘、上部砖材流淌物(如硅涕)的侵蚀。 在高温下．砖中的玻璃相渗出在砖的表面上，与碱蒸气或配合料粉尘中的碱成分相结合使得粘 度降低而流淌，滴到玻璃液中造成了污染。这时