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带非吸收窗口的大功率657 nm半导体激光器.pdf

第36卷第1期 中 国 激 光 v01.36,No.1 LASERS January,2009 2009年1月 CHINESEJOURNAL0F 文章编号:0258—7025(2009)01—0104—06 nm半导体激光器 带非吸收窗口的大功率657 林 涛1 段玉鹏2 郑 凯3 崇 峰3 马骁宇3 / 1西安理工大学电子工程系,陕西西安710048 、 \z西北大学物理系,陕西西安710069;3中国科学院半导体研究所,北京1000831 摘要 在激光器腔面处制作非吸收窗口(NAW)可以有效地减少光吸收,防止激光器过早出现光学灾变损伤 (COD),是提高大功率半导体激光器的功率特性的重要手段之一。采用金属有机化学气相沉积(M(K;VD)技术二 nm红光半导体激光器结构,通过闭管扩散Zn的方法在腔面附近制作了非吸收窗口。实 次外延生长了大功率657 minlt,f,得到的非吸收窗口最为有效,激光器连续工作的无扭折输出功率大于 验发现扩散温度550℃,扩散时间20 100 mw,超过常规的无窗口结构激光器的最大输出功率的两倍,激光器的斜率效率提高了23%。测量该类器件的 mW,计算得到激光器的特征温度约为89K。波长 温度特性发现,环境温度为20~70℃时,其输出功率均可大于50 nm/℃。 增加率约为0.24 关键词 激光器;半导体激光器;光学灾变损伤;非吸收窗口;最子阱混杂;A1GalnP 中图分类号TN248.4文献标识码 A doi:10.3788/CJ0104 Power657amLaserDiodeswith Windows High Nonabsorbing LinTa01DuanYu Kai3 Ma Zheng ChongFen93 Xiaoyu3 pen92 Electronic 710048,China 1Departmentof Engineering。Xi’anUniversityofTechnology,Xi’an·Shaanxi 2 710069,China DepartmentofPhysics,NorthwestUniversity,Xi’an,Shaanxi 3 Semiconductors,Chinese 100083,China Institute Sciences,Beijing of Academyof the facetscanreducethe and AbstractTofabricate windows(NAWs)nearcavity light nonabsorbing

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