光散射对Z-扫描的影响.pdfVIP

文章编号! 光散射对 扫描的影响 冯伟刚!许坤远!佘卫龙!王晓生 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 广东 广州 摘要 以光折变晶体 为研究对象 从理论和 实 验 上 仔 细 研 究 了 标 准 的 轴 扫 描 技 术 发 现 材 料 导 致 的 光 散射对测量结果有影响 因此把 扫描技术应用于光散射比较强的材料时 在进行 扫描测量时需排除光散射的 影响 关键词 光电子学 扫描 光折变效应 光散射 中图分类号 文献标识码 收稿日期 收到修改稿日期 作者简介 冯伟刚 男 中山大学物理系光学工 程 硕 士 研 究 生 主 要 从 事 光 学 非 线 性 研 究 工 作 ＠ 引 言 在光电子和光子学领域 许多器件都应用了材 料的光学非线性效应 为此人们不断完善着材料的 非线 性 测 量 技 术 在 年 等 提 出了单光束 扫描 技 术 由 于 该 技 术 具 有 装置简单 灵敏度高等优点 因而自提出后一直被广 泛应用于材料的非线性光学性质的研究 人们在应 用 测量技 术 进 行 测 量 的 同 时 也 使 它 有 了 很 大的发 展 出 现 了 许 多 种 方 法 如 双 色 光 的 技 术 双 光 束 时 间 分 辨 率 技 术 遮挡 技术 反射 技术 等 上述 各 种 改 进 的 技 术 主 要 从 提 高 灵 敏 度 如双色 遮挡 和扩大应用范围 如时间分辨 反 射 两方面对 技 术 进 行 了 发 展 而 本 文 则 是 着眼 于 测 量 结 果 精 确 度 的 研 究 以 光 折 变 晶 体 为样品 沿 光 轴 方 向 改 变 光 阑 到 样 品 距 离 各个 都 满 足 的 远 场 条 件 在 不 同 的 下测量了样品的非线性 按以往的理论分析所测结 果应一致 但实验结果并非如此 的大小对测量 结果有不可忽略的影响 经过进一步分析发现 问 题来源于材料 样品 对光的散射 理论分析 定义光阑的归一化透过率为探测光进入样品形 成的空间电荷场达到稳态时在远场小孔后所测得的 功率除以样品在远离焦点的线性区时在远场小孔后 测得的功率 探测光为二维基模 的 光束 其复振幅可表示为 其 中 第 卷 第 期 年 月 中 国 激 光