HG-AFS测定高纯碲中痕量硒干扰的消除.pdfVIP

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2017-07-01 发布于北京
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第31 卷，第11 期光谱学与光谱分析 Vol. 31,No. 11 ,pp3123-3125 201 1 年 1 1 月 Spcctroscopy and Spectral Analysis November , 2011 HG-AFS 测定高纯暗中痕量晒干扰的消除马名扬，苏流坤骨中国广州分析测试中心，广东省分析测试技术公共实验室，广东广州 510070 H 摘要用HN0J +HCI 分解样品，采用Fe -拧稼酸混合溶液作抑制剂，研究了下氢化物发生-原子荧光光谱法测定痕量刑时的干扰及其机理，探讨了 NOi 和 NCh-残留的影响，并用正交试验设计结合单因素试验 H 1 研究了不同浓度Fe se 的回收率。该方法的检111 限为O. 15μg L- 盐、盐酸、拧橡酸、棚氢化饵等条件下 , 1 样品中 se 含量为 27.01μg L- 3.1%~4.2%之间(n= l1). 加标M收率为 96.1%~ 的相对标准偏差在 102.3% 。用于实际样品的测定，结果满意。关键词高纯暗;砸s 干扰及消除;原子荧光光谱中图分类号: 0657.3 文献标识码:A 四)1: 10. 3964/j. issn. 100O-0593(20 1l)1l-3123-03 实验所用盐酸、硝酸、硫酸、棚氢化伸、氢氧化伸、拧橡间空酸均为优级纯z 三氯化铁为分析纯F 试验用水为高纯Jk; 所号| 用实验器皿均用 1 I l(伊)硝酸溶液浸泡 24 h，经高纯水淋洗确是制作半导体、制冷元件、光电元件等的基础材料，后使用。 Fe3+-拧棕酸醉液体系: 30 g L-1 +100 g • 在航宅航天、军事、电子、制冷工业等领域巾具有广泛的应三氯化铁用口.2J 。磅中杂质元素的含量高低，对硝材料的物理性能会 L→拧橡酸; 0.5% KBH 2.50 g KBH 500 溶液