[化学]络合滴定.pptVIP

六 提高络合滴定选择性的方法 由于EDTA能与许多金属离子形成稳定的配合物，而被滴定溶液中常可能同时存在几种金属离子．滴定时很可能相互干扰。因此，如何提高络合滴定的选择性，消除干扰，选择滴定某一种或几种离子是络合滴定中的重要问题。提高络合滴定的选择性的方法主要有以下两种： 1 控制溶液的酸度 2 掩蔽作用 1 控制溶液的酸度 酸度对络合物的稳定性有很大的影响。被测金属离子M与EDTA形成的络合物MY的稳定性远大于干扰离子N与EDTA形成的络合物NY的稳定性时（当cM=cN时，lgK=lgKMY-lgKNY≥5）,可用控制酸度的方法，使被测离子M与EDTA形成的络合物，而干扰离子N不被络合，以避免干扰。例如，在测定垢样中Fe2O3时，Al3+、Ca2+、Mg2+、Zn2+等为干扰离子，但在pH=1~2的介质中，只有Fe3+能与EDTA形成稳定的络合物，该pH值远小于Al3+、Ca2+、Mg2+、Zn2+等与EDTA形成稳定的络合物的最低pH值，所以它们不干扰测定。 2 掩蔽作用 在络合滴定中，若被测金属离子的络合物与干扰离子的络合物的稳定性相差不大（lgK=lgKMY-lgKNY5）时，就不能用控制酸度的方法消除干扰。在溶液中加人某种试剂，它能与干扰离子反应，而又不与被测离子作用，这种降低干扰离子浓度从而消除其对测定干扰的方法称掩蔽法。 掩蔽的方法按所用反应的类型不同可分为络合掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化还原掩蔽法等，其中用的最多的是络合掩蔽法。 络合掩蔽法 络合掩蔽法是利用干扰离子与掩蔽剂形成稳定的络合物来消除干扰。例如，用EDTA滴定水中的Ca2+、Mg2+测定水的硬度时．如有Fe3+、AI3+等离子的存在对测定有干扰。若先加人三乙醇胺，使之与Fe3+、AI3+生成更稳定的配合物，则Fe3+、AI3+为三乙醇胺所掩蔽而不产生干扰。 作为络合掩蔽剂，必须满足下列条件： 干扰离子与掩蔽剂所形成的络合物应远比与EDTA形成的络合物稳定，且形成络合物应为无色或浅色，不影响终点的判断。 掩蔽剂应不与待测离子络合或形成络合物稳定性远小于干扰离子与EDTA所形成的络合物，在滴定时能被EDTA所置换。 掩蔽剂的应用有一定的pH范围，且要符合测定要求的范围。 例如，测定垢样中ZnO时，若在pH=5~6的介质中，用二甲酚橙作指示剂，可用NH4F掩蔽AI3+；在测定Ca2+、Mg2+总量时，在pH=10时滴定，因为F-与被测物Ca2+会生成CaF沉淀，因此不能用氟化物掩蔽AI3+。 氧化还原掩蔽法 利用氧化还原反应来消除干扰的方法称为氧化还原掩蔽法。例如滴定Bi3+时，Fe3+的存在干扰测定，可利用抗坏血酸或盐酸羟胺等还原剂将Fe3+还原为Fe2+。因LgKFeY 2-=14.3比1gKFeY-=25.1小得多，就可以用控制酸度的方法来滴定Bi3+。 氧化还原掩蔽法只适用于那些易于发生氧化还原反应的金属离子，并且生成的还原性物质或氧化性物质不干扰测定的情况，因此．目前只有少数几种离子可用这种掩蔽方法。 沉淀掩蔽剂 于溶液中加人一种沉淀剂，使干扰离子浓度降低，在不分离沉淀的情况下直接进行滴定，这种消除干扰的方法称为沉淀掩蔽法。 例如在强碱性（pH=12~12.5）溶液中用EDTA滴定Ca2+时，强碱与Mg 2+形成Mg(OH)2沉淀而不干扰Ca2+的测定，此时OH-就是Mg2+的沉淀掩蔽剂；在测定垢样中ZnO时，pH=5~6时用EDTA滴定Zn2+，Fe3+对测定有干扰，可加入过量浓氨水，Fe3+生成氢氧化物沉淀，Zn2+存在于溶液中与Fe3+分离。 七 络合滴定法在水分析、垢和腐蚀产物分析中的应用  直接滴定： 凡是K稳，足够大、配位反应快速进行、又有适宜指示剂的金属离子都可以用EDTA直接滴定。如在酸性溶液中滴定Fe3+，弱酸性溶液中滴定Cu2+ 、Zn2+、AI3+，碱性溶液中滴定Ca2+、Mg2+等都能直接进行，且有很成熟的方法 例如，水的总硬度通常是用EDTA直接滴定法测定的。将水样调节至pH=10，加入铬黑T指示剂，用EDTA标准溶液滴定至溶液由酒红色变成蓝色为终点。此时，水样中的Ca 2+、Mg 2+均被滴定。直接滴定迅速简便引入误差少，在可能情况下应尽量采用直接滴定法。 返滴定 如果待测离子与EDTA反应的速度很慢，或者直接滴定缺乏合适的指示剂，可以采用返滴定法。 例如，测定垢样中Al2