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第8章 光刻工艺概述4教材课程.ppt
*; *; *;对CA DUV光刻胶来说，该种光刻胶中含有一种化学保护成份,使其不在显影溶液中溶解.
其曝光的过程,光酸产生剂在光刻胶的曝光区产生一种酸.
而后烘焙可以促进曝光后产生的酸和保护化学成分（t-BOC）反应，使光刻胶溶于显影液; *; *; *; *;驻波效应形成的原因;抗反射膜;曝光后的烘焙在升温的同时，引起了PAC感光剂通过酚醛聚合物在光刻胶中扩散，实质上是穿过驻波的边界产生了一个均匀的效应。
PAC是正胶的主要感光剂，最常见成分是DNQ，它是一种强力的溶解抑制剂。曝光后，会产生羧酸，从而使光刻胶可溶。; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *;光刻胶显影参数; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *; *
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