锌掺杂氧化镍电致变色薄膜的制备及性能分析-preparation and performance analysis of zinc-doped nickel oxide electrochromic film.docxVIP
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锌掺杂氧化镍电致变色薄膜的制备及性能分析-preparation and performance analysis of zinc-doped nickel oxide electrochromic film
锌掺杂氧化镍电致变色薄膜的制备及性能研究摘要电致变色是指材料的光学性能(透射、反射和吸收等)通过在外加电场或电流的作用下产生稳定可逆变化的现象,在外观上表现为颜色及透明度的稳定可逆变化。可作为建筑智能玻璃、电致变色显示器和汽车无炫反光镜等电致变色器件的材料,展示了其十分诱人的应用前景。近年来,随着人们对节能、环保意识的增强,电致变色材料的研究更显得尤为重要。NiO是一种宽禁带(3.6~4.0eV)半导体材料,具有优良的气敏、热敏、催化和电致变色特性,在众多的电致变色材料中,NiO作为一种典型的阳极致色材料,具有较大的着色/漂白变色范围、良好的循环寿命、大容量的离子储存能力,原料丰富,价格适宜等优点,吸引了众多科研工作者的关注。本文以NiCl2为主盐、ZnCl2为掺杂剂、LiClO4为支持电解质、以N,N-二甲基甲酰胺(DMF)为溶剂,采用恒电位阴极电化学沉积法,以FTO导电玻璃为基底制备出Zn掺杂NiO电致变色薄膜。通过对不同掺杂浓度、沉积电压及沉积时间制备薄膜样品的性能的讨论,确定了薄膜制备的最佳工艺条件,并对优化工艺条件下薄膜的形貌、组成、结构以及电致变色性能(光学性能、电化学性能和寿命)进行了系统的表征和分析。结果表明:在室温下,当掺杂浓度Zn:Ni=1:8,沉积电位为3.5V,沉积时间为15min时,薄膜表现出最优的电致变色性能。Zn的掺入使得薄膜颗粒细化,增加了比表面积,增加了薄膜的透光率差值ΔT,在人眼最敏感处λ=560nm处可达88.63%;缩短了薄膜的着色与消色(分别为2.60s和2.46s);此时的着色效率η为36.82cm2·C-1。关键词:锌掺杂氧化镍薄膜;电化学沉积;电致变色;循环伏安;ElectrodepositionandpropertiesofZn-dopednickeloxideelectrochromicthinfilmAbstractElectrochromism(EC)isaphenomenonthatmaterialscanreversiblychangetheiropticalproperties,includingtransmission,reflectionandabsorption,underanappliedelectricfieldoranelectricalchange,itvisuallyshowscolorandtransparencychangesofthematerials.Recently,ECmaterialsbecomemoreandmoreimportantandhavebeenwidelyusedinsmartwindows,displaydevices,glare-freemirrors,etc.researchsontheECmaterialsbecauseoftheirattractiveprospectsforapplyinginsavingenergyandenvironmentalprotection.Nickeloxide(NiO)isakindofwidebanggap(3.6~4.0eV)semiconductormaterial.Ithastheexcellentpropertiessuchasgassensitivity,thermalsensitivity,catalyticandelectrochromicproperties.Ithasattractedspecialattentionduetotheirgooddynamicrange,cyclicreversibility,largecapacityofionstorageandlowmaterialcostasarepresentativeoftheanodecoloredmaterials.Inthisthesis,Zn-dopedNiOfilmswerepreparedonthesurfacesofFTOglassesusingelectrochemicaldepositionmethodinN,N-dimehtylformamide(DMF).NiCl2wasusedasmainsalt,ZnCl2asdopantandLiClO4assupportingelectrolyte.Inordertoobtaintheoptimizingprocessparameters,theeffectsofparameterssuchasdosage,depositionvoltageanddepositiontimeonthepropertiesofNiOfilmswerestudiedsystemly.Themorphology,structureandelectorchrom
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