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浅析单电子晶体管工作原理和仿真分析 　　摘要： 采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀等工艺，在P型SIMOX硅片上成功地制备了一种单电子晶体管。提供了一种制备量子线和量子点的工艺方法，在器件的电流、电压特性上可观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应。 　　关键词：单电子晶体管 原理 仿真分析 　　 　　单电子晶体管(SET)被认为是制造下一代低功耗、高密度超大规模集成电路理想的基本器件，因为这种晶体管工作仅需要很少的电子，所以具有极低的功耗和极高的开关速度。单电子晶体管有良好的应用前景，不仅在高灵敏度测量方面有着别的器件无法比拟的优越性，且在数字电路方面有望开发G-T级的随机存储器和高速数字处理器.研究表明，应用传统半导体工艺和材料可以制造单电子电荷效应的存储器。Augke等人最近的工作表明可以用与CMOS技术相兼容的工艺制造硅掺杂单电子晶体管，而且掩膜的几何形状和掺杂浓度对晶体管的性能有影响.使用CMOS技术制造单电子晶体管，使得单电子电路向工业化制造迈出一大步。目前，单电子晶体管有两种实现方案，即金属-绝缘体型和半导体型，不管是哪一种类型的SET，其基本部分是由介观尺度(纳米)的量子点和隧道结以及与之相连的宏观外电极和电源组成，它们都可以等效为一对势垒中间有一个库仑岛的物理模型。库仑岛和势垒的尺寸和性质对单电子晶体管的性质有很大影响，Verbrugh等人就曾对单电子晶体