改性光刻胶制备纳米压印模版！.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 (( ! %%) ! ， ， ， WH2 *(( VH * ! AI;I/LIC %%) （ ） !%%%.#P%D%%)D(( ! D)(!!.%’ GQRG ESTU?QG U?V?QG !%%) Q416 * E4:K * UH; * 改性光刻胶制备纳米压印模版! ）） ） ） ）） ! ! ! ! # $ 陈雷明 郭艳峰 郭 熹 唐为华 !）（中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室，北京 !%%%% ） ）（郑州航空工业管理学院数理系，郑州 ’(%%!( ） # ）（浙江理工大学物理系，杭州 #!%%!） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %%) ! # %%) !% 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件 目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的，但是这些材料 * 比较难以加工，从而限制了纳米压印技术的发展 提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法 利用聚焦离子束 * * 对光刻胶的改性作用，控制加工的条件，将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料，从而形成纳米压印模版* 这种方 法具有速度快、制备简单等特点，是一种新颖的加工方式，扩展了聚焦离子束的加工范围，可用于其他的纳米加工 领域* 关键词：纳米压印，光刻胶，聚焦离子束，纳米孔阵列 ： ， ， !## )!’%+ )!%, %))% 一种新颖的加工手段，可以快速、方便地制备纳米压 ! 引 言 印模版，从而为纳米压印的发展提供了更好的方向* 纳米压印是一种非常新颖的微加工方法，具有 实 验 耗费低、产量高、速度快的优点 已经有一些应用纳 * ［，］ 米压印技术进行加工的实验! * 纳米压印的基本原 在实验中，利用改性的光刻胶加工了一个中空 理是把模版上的图形转移到相对柔性的聚合物或者 纳米柱阵列 所用的实验设备是 公司生产的 * -? 其他材料上 首先将聚合物涂覆在衬底上，然后将模 型 ，使用镓离子源 图 所示为 对光