湿法刻蚀均匀性的技术研究集成电路工程专业论文.docxVIP

物 物 排 除 ，并 将 室 内之 温 度 、洁 净 度 、室 内压 力 、气 流 速 度 与 气 流 分 布 、噪 音 振 动 及 照 明 、静 电控 制 在 某 一 需 求 范 围 内 ，而 所 给 予 特 别 设 计 之 房 间 。不 论 外 在 之 空 气 条 件 如 何 变 化 ，其 室 内均 能 俱 有 维 持 原 先 所 设 定 要 求 之 洁 净 度 、温 湿 度 及 压 力 等 性 能 之 特 性 。洁 净 室 最 主 要 之 作 用 在 于 控 制 产 品 (如 娃 片等 ) 所 接 触 之 大 气 的 洁 净 度 及 温 湿 度 ，使 产 品 能 在 一 个 良好 之 环 境 空 间 中生 产 、制 造 ，此 空 间 我 们 称 之 为 洁 净 室 ，如 图2所 示 。洁 净 室 的洁 净 程 度 国际上 以洁 净 等 级 来 划 分 ，通 常分 为 C la ss l , C la ss lO , C la ss lO O , C la s s lOO O 等 ，C la ss l 的洁 净 室 提 供 了世 界 上 最 清 洁 的 环 境 ，对 室 内 的 空 气 不 断 地 过 滤 ，维 持 每 立 方 英 尺 空 气 中 悬 浮 污 染 物 的颗 粒 小 于 1颗 ，见 图 3 。 M akeu p A ir M ak eu p A ir ,- 1 [ ?1 十 F an s ^ 1?-^ I ^ i 厂 i 卞—十 I“ — 丄 r 1 | ； E qu ip m ent A rea H E P A F ilter E q uip m en tA re a i C lass iOOO I [C lass 1000 P ro c e ss Q ^ . Q P ro c e s s ； , X.t -P ro c e s s A i e a _ , T o o l 丨； ，i T o o l : h h \ ] 1 II M i ‘II 1 1 ?-- R euirn A ir R aised F loor Pum p,R F —. 驗. w ith G rid P an e ls 1 如 d etc 图 2 无 尘 室 环 境 示 意 图 C le a n ro o m C la sse s 100000 卜— j I I 謂 I I I 111||| i 10000 1^■丨 sla 01-平 !t llK 11、i劃 ‘ 0 .1 1 .0 10 P a rtic le s iz e in m ic ro n 图 3洁 净 室 分 类 图 随 着 器 件 小 型化 的 发 展 ，对 洁 净 程 度 的 要 求 也 越 来 越 高 ，因 为 环 境 中悬 浮 污 染 物 的 数 量 对 产 品 良率 的影 响 越 来 越 大 。一 颗 粉 尘 颗 粒 可 能会 阻 碍 光 刻 的 曝 光 ， 4 如 图 如 图 4 ， 由于 光 罩 上 粉 尘 颗 粒 的 存 在 从 而 导 致 曝 光 的 时 候 产 生 树 柱 和 空 洞 缺 陷 ； 会 影 响 离 子 注 入 的 分 布 ，如 图 5所 示 ，粉 尘 颗 粒 引 起 源 漏 极 区 域 离 子 注 入 的 不 连 续 ，导 致 整 个 器 件 的 失 效 。 ■ . Particlesf ■ ■oilMask~j ” ■ J L i 1 ：:m j ；I；Stum p H ole on ^ ：：‘； _ jif on -PR -PR a nii B gra Substrate Substrate | 图 4 粉 尘 颗 粒 对 在 光 刻 中 的 影 响 Io n B e a m D opam illPR fj [; || j] X , P h o to re sist J i Screen O xide j ‘ ■ ！P artial)) Im p lan ted Junctio ns 图 5 粉 尘 颗 粒 对 离 子 注 入 的 影 响 1 .3 集 成 电路 生 产 工 艺 集 成 电路 的制 造 工 艺 十 分 复 杂 ，大 体 上 可 以分 为光 刻 （L ithograph ) , 蚀 刻 (E t ch ) ，氧 化 （O x id a t ion ) ，薄 膜 （T h in f i lm ) ，化 学 机 械 平 坦 化 研 磨 （CM P ) ， 扩 散 （D IFF ) 等 几 个 部 分 ，各 个 部 分 各 司 其 职 ，完 成 整 个 晶 圆 的制 造 流 程 。 5 W W a fe r P ro c e ss F lo w ^ ~ ~ir~ ^