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sr掺杂对bifeo3基薄膜电性能的影响研究材料学专业论文
山东建筑大学硕士学位论文移动的氧空位(Zo:一)”或取代铋离子的锶离子(略)。而不是缺陷电子对
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移动的氧空位(Zo:一)”或取代铋离子的锶离子(略)。而不是缺陷电子对 (站)’-(Vo。)”,这为进一步降低薄膜材料的漏电流提供了参考,通过双层结构的探
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ABSTRACT
With the increase of sensors,resonators,drive,non—volatile memory,the ultrasonic transducers and other ferroelectric thin film electronic component demand,the preparation of low-cost,high—life,multi—functional integrated ferroelectric thin film materials is highly
attention by researchers.In recent years,BiFe03(BFO),as an ideal environment-friendly
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Currently,many factors still restrict the application of BFO thin film.On the one hand, the preparation process of BFO film is still not mature enough,BFO thin film prepared a performance of instability and the performance is not good;on the other hand,during the
preparation of BFO thin film,since the atmosphere and other reasons,easy fluctuations in Fe
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