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- 约4.03万字
- 约 55页
- 2019-02-26 发布于上海
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Classified Index: TH741 U.D.C: 621.38
Dissertation for the Master Degree in Engineering
REALIZATION AND CONTROL OF
DETECTION SYSTEM FOR WAFER SURFACE MICROSCOPIC TOPOGRAPHY
Candidate:
Li Heli
Supervisor:
Prof. Yao Yong
Academic Degree Applied for:
Master of Engineering
Speciality:
Physical Electronics
Affiliation:
Shenzhen Graduate School
Date of Defence:
Dec, 2010
Degree-Conferring-Institution:
Harbin Institute of Technology
哈尔滨工业大学工学硕士学位论
哈尔滨工业大学工学硕士学位论
-
- I -
摘 要
晶圆作为加工半导体芯片的主要材料,其质量的好坏对信息产业的影响可谓 巨大。因此,对晶圆表面微观形貌做精密的检测显得尤为重要。
本文对晶圆表面微观形貌检测系统的实现原理上作了研究工作,对系统采用 的表面微观形貌复原算法作了简要概括。在结合以上两部分理论基础上,利用 Visual C++6.0程序设计平台,设计了系统操作界面,包括系统用户登录界面、系统 操作员管理界面、系统主控界面以及图像存储保存界面,将系统用于晶圆表面微 观形貌检测过程中所涉及的各个环节进行了自动控制,实现了用户友好型的系统 操作控制平台,为系统便捷操作,有效管理作了人性化处理。
为了将系统采用的光学硬件组成部分及软件控制平台较好地结合,便于使用 和操作,在考虑各方面条件及要求的前提下,设计并制作了系统装置,做到了装 置布局合理,结构规范,易于操作和安放。该装置目前可以对待检验样品进行实 时检测及分析处理。
系统通过五步相移算法可以对样品进行检测工作。利用已完成的该系统的检 测装置采集了数组数据并进行了样品的相位提取工作,复原了样品的微观形貌。 试验检测结果表明我们所采用的装置设计合理,算法有效,操作简单,达到了预 期的设计目的和要求。
研究和实验结果表明:晶圆表面微观形貌检测系统理论正确,界面操作简单 有效,可以在普通实验条件下工作,检测精度可以达到纳米量级。
最后,对于系统尚存在的问题及后续完善工作等事宜作了较为完备的总结并 制作成档,为今后的改进工作做了准备。
关键字:晶圆;微观形貌;五步相移算法;系统集成;系统界面
-
- II -
Abstract
Wafer is the main material to manufacture semiconductor chip, whose quality plays an important role in the field of information. Therefore, precision measurement on the wafer topography is particularly important.
In this dissertation, with a thorough research of the theory of detection system for wafer surface microscopic topography together with some analysis work on reconstruction surface algorithm for the system, I’ve done some analysis work on the control of the system. The design of the user interface for the system is the main duty of mine. After study on the control process of the system, I’ve designed the UI to control the whole system with Visual C++6.0, including the login UI, the operator management UI, the key control UI of the system and the storage UI for images. The aim of the whole work is to control the detection process autom
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