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提高三氯氢硅合成中淋洗器除尘效率 刘昌鑫张云华杨洋(昆明冶研新材料股份有限公司，云南昆明650000) 摘要：本文主要介绍了三氯氢硅合成湿法除尘工艺中淋洗 体中，夹带硅粉颗粒的气泡在压差作用下自下而上穿过填料 器的作用及改造，对淋洗器的设备结构、原理进行研究，结合三 层，液体在重力作用下自上而下穿过填料层，在此过程中混合 氯氢硅合成工序中淋洗器的实际运行情况，分析找出存在的问 氯硅烷液体与混合氯硅烷气体发生传质传热，固体颗粒及金属 题和缺陷，提出对淋洗器改造的意见和措施，除尘效率显著 氯化物在液体淋洗下，沉积在锥体部分，定期的排出。气体中 提升。 的固体颗粒被充分去除。气相部分从顶部出去经过冷凝器冷 关键词：三氯氢硅合成；淋洗器；除尘效率 凝成液体收集在相分离器中，进行下一步的提纯。 在多晶硅生产工艺中，三氯氢硅合成是必不可少的，是为 2湿法除尘存在的问题及原因分析 多晶硅生产提供原料的关键工艺。三氯氢硅合成是采用固体 2．1湿法除尘工序存在的问题：(1)生产一段时间后，合成 硅粉和气体氯化氢在流化床反应器内进行反应，反应产物除了 炉与淋洗器之间的压差增大，造成合成炉憋压；(2)淋洗器顶部 氯硅烷气体之外，还有被带出的硅粉颗粒、金属氯化物(AlCl，、出口的冷凝器换热管容易堵塞，影响换热效果；(3)后续系统的 Fecl，、CaClz)等杂质。如果不能将这些杂质除去，容易给后续系 泵前过滤器容易堵塞，造成泵跳停，影响整个系统的正常运行。 统的设备、管道、过滤器等造成堵塞，影响整个工序的正常运 2．2原因分析：(1)通过停车检修时对淋洗器的拆开检查， 行。因此，三氯氢硅合成中，除尘是非常重要的。良好的除尘 发现淋洗器分布器堵塞严重，分析得出设备自身存在一定的缺 效果才能保证生产的稳定运行。在三氯氢硅合成工艺中，一般 陷；(2)后续系统带出固体杂质，可能是对锥体的排渣次数太 采用干法除尘和湿法除尘串级使用。干法除尘除去大量的固 少；(3)淋洗器的液位控制偏高，影响气体和液体的传质传热， 体硅粉，湿法除尘除去剩下的少量硅粉和金属氯化物，原则上 降低了淋洗效果。 金属氯化物要在这里全部除去。本文主要研究讨论三氯氢硅 3实施的技改措施及效果 合成湿法除尘工艺中淋洗器的运行情况、存在的问题及优化 3．1对于淋洗器存在的问题，从设备角度分析淋洗器中关 措施。 键的组成部分就是气体分布器，分布器上开孔的位置、数量、大 1淋洗器的结构及原理 小、结构等都会影响设备在生产中的淋洗效果。最开始使用的 1．1三氯氢硅合成湿法除尘工艺中主要是使用液态氯硅烷 淋洗器其分布器上的开孔数为6对，共12个孔。均匀分布在分 对反应气体进行淋洗(氯硅烷与硅粉不发生反应)，由于返回淋 布器的上部(如图2)。使用一段时间后，发现后续系统的泵出 洗的物料经过冷却，温度较低，对合成气体除了有除尘效果外， 现故障，压力下降，流量下降。怀疑是泵前过滤器堵塞，投用备 还有降温及出去混合气体里面金属氯化物的作用。避免大量 用泵后，对原过