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数字化射频电源网络自动匹配器的研制 工业上使用大功率电源激发气体可获得等离子体， 再利用离 子束溅射沉积原理可进行真空镀膜、 集成电路刻蚀等工作。 如果 采用直流溅射方法， 当靶的材料是绝缘体时轰击到靶上的离子会 使靶带上正电荷且电位上升， 从而导致离子不能继续轰击靶。 交 流溅射可以消除由离子引起的靶带电现象， 该交流频率经理论计 算约为10MHz所以现在常用频率13.56MHz、内阻50 Q的射频 电源，其功率由负载的大小决定 [1 、2] 。由于离子腔室内负载的 阻抗值随着时间和腔室内环境参数的改变发生非线性变化， 若直 接将射频电源与负载相连接， 必然导致阻抗失配而产生大功率 反射，造成负载能量不足、射频电源过热、泄露的电磁辐射危害 人体等后果 [2] 。为此必须在电源与负载之间串联自动调节的匹 配网络以保证射频电源正常、高效、安全地工作 [2] 。 调研发现国内有些单位做过射频电源网络匹配的研究， 但目 前只有几种国产的模拟电路控制式的射频电源网络自动匹配器 产品，在性能上与国外数字化的产品有较大差距，文章在国产 VENA-1000型匹配器基础上研制了数字式控制电路及智能算法， 使其变成一个数字化的射频电源网络自动匹配系统。 射频电源网络匹配原理 图2中ZL为负载阻抗（复阻抗），r型的可调谐匹配网络 安装在射频电源与负载之间， 由固定电感L、可调电容CT及与L 并联的可调电容 CL 组成。从电源端看出去的阻抗 Zin=1/j ？棕 CL || (j ?棕 L+1/j ?棕 CT+ZL，反射系数？祝 L= (Zin-RS ) / (Zin+RS)。若Zin=RS或反射系数？祝L=0,则射频系统阻抗 将会达到完全匹配。 据文献⑶，当负载阻抗ZL在(5-50?赘)-j (0-3600? 赘)范围内变，取电感L=47?滋H,只要调节电容CL(2- 100pF) 及CT( 50- 1200pF的值，均可使射频系统达到阻抗匹配状态， 由射频电源发出的功率能够最大限度地输送到负载， 不会被匹 配网络消耗而转变成热能。 射频电源网络自动匹配控制系统的设计 系统结构和实现匹配原理的方法 射频电源工作系统的结构如图 3 所示，无色部分就是射频电 源网络自动匹配控制器。其中由匹配电感L、可调真空电容CTune 和CLoad构成的r型匹配网络可匹配电源与负载的阻抗，反射 系数检测器实时采集电路的匹配状态信息经过放大滤波后送至 数字信号处理器电路进行 A/D 变换，通过后者的智能化算法处理 后输出2路PWM波驱动2个直流电机对2个电容施加调节，以实 现电源与负载之间阻抗的动态匹配。 文章新设计制作了放大、 数 字信号处理器和驱动电路等， 系统的其他部分仍沿用原模拟型匹 配器的装置，这构成一个闭环的自动控制系统。 自动控制电路的设计 自动控制电路由传感信号放大、 数字信号处理、 电机驱动和 电源电路等构成。 放大电路采用了多级的高阻抗精密运放实现传 感器信号的阻抗变换、放大、滤波和电平偏置；采用 1 片 32 位 数字信号处理器TMS320F2803敦行A/D变换、人机交互、通信、 算法处理和PWM调制等多种功能；用集成 H桥电路芯片L298驱 动直流电机；开关型直流稳压电源提供土 12V +5V和+3.3V等多 组DC输出，除为数字系统供电外还为模拟电路提供大的动态工 作范围。此外为了防止CPU死机造成机械装置冲出极限位置的情 况，在 L298 控制端上增加了极限位置传感和制动电路。要求达 到的关键指标：（1）A/D精度12位；（2）A/D采样率512次/ 秒；（3）PWM分辨率10位；（4） RS-485通信波特率115200; （5）人机接口： 4按键键盘输入，4行X 20字符/行LCD输出。 控制程序的组成和设计 控制程序包括信号采集、信号噪声处理、匹配算法、电机驱 动控制、系统保护、上位机通讯、人机交互和系统调试等功能模 块。其中核心的匹配算法模块的工作流程如图 4所示，这是实现 匹配原理的具体方法。 原型样机测试 系统样机的控制电路安装在一块 4层的印制线路板，其中 A/D转换速率、PWM控制的直流电机转速等参数需要非常仔细地 反复测试和修改，整机的主要性能指标列于表 1。 4 结束语 在现有模拟式匹配器基础上，基于 r型无损网络匹配原理 研制了一种的数字化射频电源网络自动匹配器， 该匹配器在匹配 范围、准确度、匹配时间、稳定性等关键指标上显著优于模拟式 匹配器。