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PAGE PAGE 1 测量变化的方法、检查系统、计算机程序和计算机系统与流程 测量变幻的办法、检查系统、计算机程序和计算机系统1.本技术是原申请人为“asml荷兰有限公司”的进入中国国家阶段日期为2019年8月22日的申请号为201880013485.4的发明名称为“测量变幻的办法、检查系统、计算机程序和计算机系统”的专利申请(国际申请日为2018?02?07，国际申请号为pct/ep2018/053031)的分案申请。技术领域2.本发明涉及测量一图案在一个或多个衬底上的不同实例之间的变幻，尤其是在光刻的状况下。背景技术：3.光刻设备是将所期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于器件创造过程的一个或多个阶段，诸如集成电路(ic)的创造中。在那种状况下，图案形成装置(其替代地被称作掩模或掩模版)可以用以产生待形成于ic的单层上的电路图案。可以将该图案转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的部分、一个管芯或几个管芯)上。通常经由将图案成像至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来举行图案的转印。普通而言，单个衬底将包括依次图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中一次性将囫囵图案曝光至目标部分上来辐照每一目标部分；和所谓的扫描器，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案同时平行或反向平行于所述方向同步地扫描衬底来辐照每一目标部分。也有可能通过将图案压印至衬底上而将图案从图案形成装置转印至衬底上。4.为了监控器件创造过程，对图案化衬底的参数(以及因此影响图案化衬底的器件创造过程的任何方面的参数)举行测量。该参数可以包括图案外形(包括1d和2d外形)的特征，例如经显影的光敏抗蚀剂的临界尺寸(通常为线宽)和/或经蚀刻的产品特征。该参数可以包括特征高度和/或特征间距。该参数还可以包括线边缘粗糙度和线宽粗糙度。可以在产品衬底上和/或专用量测目标上执行这些测量。存在着多种技术用于测量在光刻过程中所形成的微观结构，包括用法扫描电子显微镜(sem)和各种专用工具。5.还希翼在衬底上的不同位置处和不同衬底之间监视图案化衬底的参数的变幻。这种变幻可以通过比较在单个衬底上或不同衬底上的图案(例如名义上相同的图案)的多个实例的图像来被监测。一组这样的图像相对于彼此配准(对准)，并且可以识别和量化不同图像之间的偏差。6.已经发觉用于评估一图案的多个实例之间的变幻的现有办法是不行靠的。技术实现要素：7.希翼提供用于测量一图案的多个实例之间的变幻的改进办法。8.按照本发明的一个方面，提供了一种在器件创造过程中的步骤之后测量一图案在一个或多个衬底上的多个实例之间的变幻的办法，包括：接收表示一组图像的数据，每个图像表示所述图案的不同实例；相对于彼此配准该组图像以叠加所述图案的实例；以及用法配准的该组图像来测量所述图案的变幻，其中：所述图案包括多个图案元素，并且该组图像的配准包括将不同的权重应用于所述多个图案元素中的两个或更多个，所述权重控制每个图案元素对该组图像的配准的贡献程度；并且每个权重基于被应用所述权重的图案元素的预期变幻。9.按照本发明的另一方面，提供了一种在器件创造过程中的步骤之后测量一图案在一个或多个衬底上的多个实例之间的变幻的办法，包括：接收表示一组图像的数据，每个图像表示所述图案的不同实例；相对于彼此配准该组图像以叠加所述图案的实例；以及用法配准的该组图像来测量所述图案的变幻，其中：由边界框来界定所接收的该组图像中的每个图像；并且该组图像的配准包括基于在所接收的该组图像的边界框之间的交集来为该组图像设置公共边界框；并且用法各个图像的公共边界框内的全部像素来执行该组图像的配准。10.按照本发明的另一方面，提供了一种在一个或更多个图像中配准图案的办法，所述图案包括多个图案元素，每个图案元素具有权重，所述权重控制所述图案元素对所述图案的配准的贡献程度，所述办法包括：用法描述用于创建所述图案的图案形成过程的模型来确定起码一个图案元素的变幻；以及基于所确定的图案元素的变幻来确定与所述起码一个图案元素相关联的权重。11.按照本发明的另一方面，提供了一种用于在器件创造过程中的步骤之后测量一图案在一个或多个衬底上的多个实例之间的变幻的检查系统，包括：图像采集装置，被配置成在一个或多个衬底上执行成像操作以获得一组图像，每个图像表示所述图案的不同实例；以及计算机系统，被配置成：使该组图像相对于彼此配准以叠加所述图案的实例；以及用法配准的该组图像来测量所述图案的变幻，其中：所述图案包括多个图案元素，并且该组图像的配准包括将不同的权重应用于所述多个图案元素中的两个或更多个，所述权重控制每个图案元素对该组图像的配准的贡