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电子光学基础 ——电磁透镜的像差 像散 像散缺陷，是由于透镜内孔和极靴孔不完全对称、极靴材料内部的不均性、极靴污染等原因造成的不同径向的焦距不同而引起的。 第二十二页，共五十页。 电子光学基础 ——电子光学系统的分辨率 由衍射效应形成的爱瑞斑 第二十三页，共五十页。 电子光学基础 ——电子光学系统的分辨率 因衍射像差能够分辨两点的最短距离 A、B近似等于1 称为衍射像差。 电子显微镜的分辨距离就是所有像差引起的圆斑半径之和。对于电镜，起主要作用的是衍射像差和球差。 最佳孔径角 和最小分辨距离 ： 第二十四页，共五十页。 电子光学基础 ——场深和焦深 场深（景深） 在 之间的任意点无论怎样聚焦，其像不会比xi小。距离 称为场深。 第二十五页，共五十页。 电子光学基础 ——场深和焦深 焦深 在 范围内移动屏幕， 点的像不会发散，但也不会变小。即在 范围内，像的清晰度是一样的， 即为焦深。 第二十六页，共五十页。 透射电子显微镜 透射电镜和 光镜的光路图 第二十七页，共五十页。 照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成，其作用是提供一束亮度高、相干性好和束流稳定的照明源。通过聚光镜的控制可以实现从平行照明到大会聚角的照明条件。为满足中心暗场成像的需要，照明电子束可在2°～3°范围内倾斜。 照明系统 — 电子枪 第二十八页，共五十页。 照明系统 一、电子枪 电子枪是透射电子显微镜的光源，要求发射的电子束亮度高、电子束斑的尺寸小，发射稳定度高。电子枪可分为热电子发射型和场发射型两种类型。过去的透射电子显微镜中使用的是热电子发射型的热阴极三极电子枪，它是由阴极、阳极和控制栅极组成。 第二十九页，共五十页。 为了提高照明亮度，随后发明了电子逸出功小的六硼化镧（LaB6）作阴极。它比钨丝阴极的亮度高1～2数量级，而且使用寿命增长。 LaB6电子枪的结构原理图 照明系统 第三十页，共五十页。 目前亮度最高的电子枪是场发射电子枪（FEG：field emission gun），其结构原理如图1.6所示。在金属表面加一个强电场，金属表面的势垒就变小，由于隧穿效应，金属内部的电子穿过势垒从金属表面发射出来，这种现象称为场发射。 场致发射电子枪结构原理图 照明系统 第三十一页，共五十页。 二、聚光镜 人们把静电场做成的透镜称为“静电透镜”（如电子枪中三极静电透镜），用电磁场做成的透镜称为“电磁透镜”。透射电子显微镜的聚光镜、物镜、中间镜和投影镜均是“电磁透镜”。 典型的磁透镜剖面图 照明系统 第三十二页，共五十页。 1.2 构造及其特性 多功能样品室 多功能样品室的主要作用是通过样品室承载样品台，并能使样品平移，以选择感兴趣的样品视域，再借助双倾样品台可使样品位于所需的晶体学位向进行观察。样品室内还可分别装有加热、冷却或拉伸等各种功能的侧插式样品座，以满足相变、形变等过程的动态观察。样品台及其双倾旋转方向示意如图1.10。加热和冷却侧插式样品架外观如图1.11所示。 第三十三页，共五十页。 1.2.2 多功能样品室 图1.10 样品台及其双倾旋转方向 图1.11 加热和冷却侧插式样品架外观 第三十四页，共五十页。 透射电子显微镜 —— 镜筒 成像系统 物镜、中间镜和投影镜构成三级成像系统。最终像的放大倍数是这三个透镜的放大倍数的乘积，即： 第三十五页，共五十页。 成像系统 成像系统是由物镜、中间镜 和投影镜组成。物镜是成像系统的第一级透镜，它的分辨本领决定了透射电子显微镜的分辨率。中间镜和投影镜是将来自物镜给出的样品形貌像或衍射花样进行分级放大。通过成像系统透镜的不同组合可使透射电子显微镜从50倍左右的低倍到一百万倍以上的高倍的放大倍率内变化。 物镜极靴剖面图 第三十六页，共五十页。 透射电子显微镜 —— 镜筒 成像系统 物镜是最主要的部件。改变物镜电流的过程就是聚焦过程。 物镜后焦面处放有物镜光栏，其作用是挡住散射电子，提高电镜的分辨率和衬度。 物镜下部装消像散器，用以消除像散，提高电镜分辨率。 第三十七页，共五十页。 透射电子显微镜 —— 镜筒 成像系统 中间镜是一个弱透镜。变化中间镜电流，可获得不同的放大倍数。可更换投影镜极靴，再改变中间镜电流，以达到所需的放大倍数。 改变中间镜电流还可得到电子衍射图像。 第三十八页，共五十页。 透射电子显微镜 —— 镜筒 像的观察和记录系统 投影镜下面是观察室，内有荧光屏，在电子束的轰击