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电子束蒸发制备的io薄膜光学常数和厚度的测定 1 薄膜光学常数的测量 许多文献已经报道了薄膜光度常数和厚度的测量，但现有的方法存在一些不足之处。椭偏法和棱镜耦合法,不仅需要建立比较复杂的测试设备而且影响测试精度的因素很多,棱镜耦合法还要求测试薄膜的厚度较厚;包络线法只能对弱吸收膜进行测试,而且薄膜必须很厚;常用的光度法大多需要测量薄膜的反射率和透射率光谱曲线,由于反射率测量比较困难,因此其测量精度远不如透射率测量高。常用的分光光度计能精确测量透射率,但难以精确测量绝对反射率。近年来随着微光机电系统和微电子工艺的发展,如何简便快速地从一条正入射透射率光谱曲线得出薄膜的厚度和复折射率得到了人们特别的关注。 本文提出了对不同类型的材料,借助相应的色散公式,利用改进的单纯形方法拟合薄膜的透过率光谱曲线,获得薄膜厚度和光学常数的一种方法。此方法只需简单的测量透过率曲线,而且由于光谱曲线不需要极值,所以可以获得厚度较薄薄膜的光学常数。单纯形法很适于未知量个数较多以及它们取值范围变化大的曲线拟合,而且它具有很强的全局优化能力,因此测定薄膜光学常数时,不需要任何的初始输入,就能很快地得到结果。这在微光机电系统和微电子研究中具有潜在的应用。 2 薄膜厚度和染色参量的计算 在Ns=ns-iks的基板上有一层均匀的薄膜,如图1所示。假定薄膜的复折射率为N=n-ik,则由薄膜的特征矩阵可得 [BC]=[cosδi(n?ik)sinδin?iksinδcosδ][1ns?iks],(1)[BC]=[cosδin-iksinδi(n-ik)sinδcosδ][1ns-iks],(1) 其中δ=2πλ(n?ik)dδ=2πλ(n-ik)d是这层薄膜的相位厚度,d是薄膜的空间厚度,那么由(1)式就可以得到薄膜和基板的组合导纳Y=C/B,薄膜的透过率为 T=4n0|ns?iks||n0B+C|2,(2)Τ=4n0|ns-iks||n0B+C|2,(2) 因为基板后表面会有反射,因此透过率会降低,必须进行修正。考虑到基板的厚度比较大,非相干光入射时,认为没有干涉现象,只是强度的叠加,则 T′=TTs1?RsR,(3)Τ′=ΤΤs1-RsR,(3) 其中T′是考虑基板后表面反射后的透过率,R、T是基板镀膜面反射率和透过率,Rs、Ts是基板和空气界面的透过率和反射率。对于玻璃基板Rs=0.042,Ts=0.958,所以可以近似的认为T′=0.96T。 透过率曲线中包含了n,k,d所有的信息,但要从一个透过率值获得n,k,d三个变量的值是不可能的,这时我们只能应用色散模型,拟合测得的透过率曲线,从而得到薄膜的厚度和色散参量。评价函数取为 F(d,c1,c2,c3,c4,?)=∑λ0λn[ti?t(λi,d,c1,c2,c3,c4,?)]2,(4)F(d,c1,c2,c3,c4,?)=∑λ0λn[ti-t(λi,d,c1,c2,c3,c4,?)]2,(4) 其中ti为实际测得的λi处的透过率,t(λi,c1,c2,c3,c4,…)是在这个波长上由薄膜参量算得的理论上的透过率。评价函数的数值由薄膜的几何厚度和描述色散模型的参量来决定,因此求得评价函数的最小值就可以获得厚度和参量的值。 单纯形方法是光学薄膜的优化中运用较多的方法。由M维空间中的(M+1)个初始值构成的单纯形进行反射、延伸、收缩、压缩等变换(M为自变量的个数),直到单纯形压缩到充分小,得到一个近似极小点。它受初始结构的影响小,并且不需要计算导数,因此特别适用于这种表达式较复杂而且变量较多的情况。对于光学薄膜,折射率取值范围一般为1.3~5,而厚度范围为10~3000 nm,因此在优化过程中,作为变量的厚度和色散模型中各个参量之间数值有很大的差别,必须对它们作一些修正进行归一化,修正后变量如下: v′x=(vx?vxˉˉˉ)dxˉˉˉˉ?dxˉˉˉˉvxˉˉˉˉ?vxˉˉˉˉ+dxˉˉˉˉ?(5)v′x=(vx-vxˉ)dxˉ-dxˉvxˉ-vxˉ+dxˉ?(5) vx表示色散模型的参量变量,dx表示薄膜的厚度变量,这样在[vxˉˉˉ,vxˉˉˉ][vxˉ,vxˉ]中均匀分布的色散变量就转化成[dxˉˉˉˉ,dxˉˉˉˉ][dxˉ,dxˉ]中均匀分布的优化变量,给单纯形提供了一个良好的搜索空间。 在优化过程中,单纯形经过反复变换后很容易出现降维现象,以致找不到局部极小点,因此我们采用了初始值2M个顶点的多面体来进行变换。由于顶点增多,这样在优化过程中即使有降维,也不会影响到优化的进行。评价函数中自变量较多且表达式也较复杂,因此会在很多地方取到局部优化点,为了跳出局部点,而找到和薄膜实际情况一致的全局优化点,我们加上了一些限制条件,比如合适的评价函数值(0.01),折射率n=1.3~5,d=10~2000 nm