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- 2026-01-22 发布于重庆
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号CN111668092B(45)授权公告日2025.07.15
(21)申请号202010511286.5
(22)申请日2020.06.08
(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111668092A
(43)申请公布日2020.09.15
(66)本国优先权数据
(74)专利代理机构北京头头知识产权代理有限公司11729
专利代理师刘锋王方明
(51)Int.CI.
H01L21/18(2006.01)
H01L21/02(2006.01)
H01L21/67(2006.01)
202010331326.82020.04.24CN(56)对比文件
(73)专利权人北京华卓精科科技股份有限公司
地址100176北京市大兴区北京经济技术
开发区科创十街19号院2号楼2层(北京自贸试验区高端产业片区亦庄组
团)
CN109437096A,2019.03.08
CN110098140A,2019.08.06
审查员贾晓阳
(72)发明人刘效岩张凇铭王建
权利要求书2页说明书7页附图2页
(54)发明名称
晶圆键合的方法
(57)摘要
CN111668092B本发明公开了一种晶圆键合的方法,属于集成电路芯片制造领域。该方法在集成电路芯片制造厂依次进行清洗工艺和烘烤工艺;通过晶圆键合设备进行如下键合工艺:机械手传送区将晶圆从晶圆存取区取出;晶圆ID阅读器和晶圆预对准器读取晶圆ID并预对准晶圆;对准预键合单元对晶圆进行对准和预键合;视觉检测区检测预键合后的晶圆对是否存在键合缺陷,若存在,则解键合单元对晶圆对进行解键合后将晶圆放到晶圆存取区;否则,直接将晶圆对放到晶圆存取区。键合工艺中,通过机械手传送区和/或后置机械手对晶圆和晶圆对进行传输。本发明优化了晶圆的
CN111668092B
110
110
102、107、108106
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CN111668092B权利要求书1/2页
2
1.一种晶圆键合的方法,其特征在于,所述方法包括:
在集成电路芯片制造厂依次对晶圆进行清洗工艺和烘烤工艺;
通过晶圆键合设备对晶圆进行键合工艺;
所述晶圆键合设备包括机台,所述机台上设置有机械手传送区、晶圆存取区、对准预键合单元、视觉检测区、解键合单元、后置机械手、晶圆ID阅读器和晶圆预对准器;
所述键合工艺包括:
通过机械手传送区将待键合的两个晶圆从晶圆存取区取出;
通过晶圆ID阅读器和晶圆预对准器读取晶圆ID并对两个晶圆进行预对准;
通过对准预键合单元对两个晶圆进行对准以及预键合;
通过视觉检测区检测预键合后的晶圆对是否存在键合缺陷,若存在键合缺陷,则通过解键合单元对晶圆对进行解键合,将解键合后得到的两个晶圆放置到晶圆存取区,重新进行键合工艺;若不存在键合缺陷,则直接将晶圆对放置到晶圆存取区;
其中,键合工艺的过程中,通过机械手传送区和/或后置机械手对晶圆和晶圆对进行传输;
所述清洗工艺包括化学表面活化清洗工艺,所述化学表面活化清洗工艺包括:
使用化学药液对晶圆进行活化清洗;
晶圆干转;
使用水对晶圆进行清洗;
使用氮气对晶圆进行吹干;
所述化学药液的PH范围为8-10,所述化学药液由以下全部或部分物质组成:
水70-90%;
杂环类化合物1-15%;
取代胺1-15%;
氨类化合物1-10%;
无机酸1-10%;
无机盐1%。
2.根据权利要求1所述的晶圆键合的方法,其特征在于,使用化学药液对晶圆进行活化清洗的时间为20-60s,晶圆干转的时间为3-10s,使用水对晶圆进行清洗的时间为20-60s,使用氮气对晶圆进行吹干的时间为10-30s,对晶圆进行烘烤的温度为100-400℃,烘烤时间为10s-90s。
3.根据权利要求1或2所述的晶圆键合的方法,其特征在于,所述晶圆存取区、晶圆ID阅读器和晶圆预对准器位于所述机台的左部区域,所述对准预键合单元位
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