原创力文档用于阻挡层抛光的化学机械抛光液
原料配比
原料
配比（质量份）
1#
2#
3#
4#
5#
6#
7#
8#
9#
研
磨
颗
粒
SiO2(70nm)
1
－
－
－
5
7
－
－
10
Al2O3(10nm)
－
2
－
－
－
－
－
－
－
CeO2(150nm)
－
－
15
－
－
－
－
－
－
聚甲基丙烯酸甲酯（200nm）
－
－
－
20
－
－
－
－
－
SiO2(40nm)
－
－
－
－
－
－
7
－
－
SiO2(100nm)
－
－
－
－
－
－
－
8
－
成
膜
剂
苯并三氮唑
1
－
－
－
－
－
－
－
－
吲唑
－
0.5
－
－
－
－
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