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- 2026-02-26 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号CN1797201B
(45)授权公告日2010.09.08
(21)申请号200410103534.3
(22)申请日2004.12.29
(73)专利权人财团法人工业技术研究院
地址中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段一九五号
(72)发明人陈锦泰邱庆龙洪基彬
(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277
代理人刘新宇王一斌
(51)Int.CI.
GO3F7/20(2006.01)
(56)对比文件
US20030118921A1,2003.06.26,全文. JP2001-108813A,2001.04.20,说明书0009、0030-0041,0048-0063以及附图2(f)-(h). JP平10-239516A,1998.09.11,说明书0010、0022-0024、0030、0031段以及附图1(a)-
(c)、2(a)-(d).
审查员孙曙旭
权利要求书2页说明书8页附图10页
(54)发明名称
微型图像的制作方法
(57)摘要
CN1797201B本发明涉及一种微型图像的制作方法,包括下列步骤:提供一清洁无污染的媒介物体;将光致抗蚀材料的微流体布着于媒介物体的表面而形成一第一微流体层;以及利用一第一掩膜板对第一微流体层进行曝光与显影,并获得所欲的精确的微型图像。其中,第一微流体层显影前的宽度大于第一微流体层显影后的微型图像的宽度,而且,第一微流体层显影前的高度大于第一微流体层显影后的微型图像的高度。本发明克服了膜厚平坦
CN1797201B
CN1797201B权利要求书1/2页
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1.一种微型图像的制作方法,其特征在于所述微型图像的制作方法包括下列步骤:
提供一清洁无污染的媒介物体;
将一光致抗蚀材料的微流体布着于该媒介物体的表面,且该微流体经完全干燥后形成一第一微流体层,该第一微流体层形成中央平坦而边缘比中央高的固化膜;
将一第一掩膜板置于该第一微流体层的上方,但不接触该第一微流体层;以及
利用该第一掩膜板对该第一微流体层进行曝光与显影,除去该固化膜的边缘而在该固化膜的中央平坦区域获得所欲的微型图像。
2.根据权利要求1所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层显影前的宽度大于该第一微流体层显影后的微型图像的宽度,而且,该第一微流体层显影前的高度大于该第一微流体层显影后的微型图像的高度。
3.根据权利要求1所述的微型图像的制作方法,其特征在于更包括下列步骤:
在该第一微流体层中形成一间隙,该间隙为位于该媒介物体表面上的开放区域;
将光致抗蚀材料的微流体布着于该间隙中形成一第二微流体层;以及
利用一第二掩膜板对该第二微流体层进行曝光与显影,并获得所欲的微型图像。
4.根据权利要求3所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层显影前的宽度大于该第一微流体层显影后的微型图像的宽度,而且,该第一微流体层显影前的高度大于该第一微流体层显影后的微型图像的高度。
5.根据权利要求1所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层为微流体连续堆迭布着于该媒介物体表面,而形成无间距的线条。
6.根据权利要求5所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层显影前的宽度大于该第一微流体层显影后的微型图像的宽度,而且,该第一微流体层显影前的高度大于该第一微流体层显影后的微型图像的高度。
7.根据权利要求1所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层为微流体连续堆迭布着于该媒介物体表面,而围绕成中空框架图像。
8.根据权利要求7所述的微型图像的制作方法,其特征在于:该第一微流体层显影前的宽度大于显影后该第一微流体层的微型图像的宽度,而且,该第一微流体层显影前的高度大于该第一微流体层显影后的微型图像的高度。
9.一种微型图像的制作方法,其特征在于所述微型图像的制作方法包括下列步骤:
提供一清洁无污染的媒介物体;
将多种不同颜色的光致抗蚀材料的微流体依序分别布着于该媒介物体表面的不同位置,且所述微流体经完全干燥后形成多个微流体层,每一微流体层形成中央平坦而边缘比中央高的固化膜;以及
提供多个掩膜板,所述掩膜板分别对应于所述微流体层;
依序以所述掩膜板分别对所述微流体层曝光显影,除去所述固化膜的边缘而在所述固
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