CN1760112A 具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法 （华中科技大学）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请号200510019857.9

[51]Int.Cl.

B81B7/002006.01)B82B1/00(2006.01)

B81C1/00(2006.01)

B82B3/00(2006.01)

[43]公开日2006年4月19日[11]公开号CN1760112A

[22]申请日

2005.11.22

[74]专利代理机构华中科技大学专利中心

[21]申请号

200510019857.9

代理人朱仁玲

[71]申请人

华中科技大学

地址

430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

张鸿海范细秋贾可马斌江小平刘胜甘志银汪学方

[72]发明人

权利要求书2页说明书8页附图3页

[54]发明名称

具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法

[57]摘要

a本发明公开了一种具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法。超疏水表面的结构为，在聚合物薄膜的表面上同时存在微米级阵列和纳米级阵列，微米级阵列中微柱的长、宽、高和阵列中各微柱之间的间距为10～100μm,纳米级阵列中纳米柱的高、直径和阵列中各纳米柱之间的间距为10~100nm。本发明具有双微观结构的超疏水表面能克服微尺度下的表面效应导致的表面摩擦和粘附；能降低微流通道的沿程压力损失，增大流体的流动速度，改善流体在微流体器件中的流动特性。本发明制作具有双微观结构的超疏水表面的方法是以微加工和阳极氧化为基础，成品率较高；以纳米压印作为转移手段，模板可重复利用，容易进行大规模批量生产，降低了成本。

a

200510019857.9权利要求书第1/2页

2

1.一种具有双微观结构的超疏水表面，其特征在于：在聚合物薄膜的表面上，同时存在微米级阵列和纳米级阵列，微米级阵列中微柱的长、宽、高和阵列中各微柱之间的间距为10～100μm,纳米级阵列中纳米柱的高、直径和阵列中各纳米柱之间的间距为10～100nm。

2.根据权利要求1所述的具有双微观结构的超疏水表面，其特征在于：所述聚合物薄膜是热固性的聚合物薄膜。

3.根据权利要求2所述的具有双微观结构的超疏水表面，其特征在于：所述热固性的聚合物薄膜是聚甲基丙烯酸甲酯、或聚碳酸酯或聚乙烯醇或聚酰亚胺或聚二甲基硅氧烷。

4.一种制作权利要求1所述具有双微观结构的超疏水表面的方法，其

特征在于：包括以下步骤

(1)在纯度不低于99.99%的铝片上进行微加工，在铝片上得到微米级阵列，微米级阵列中微柱的长、宽、高和微米级阵列中各微柱之间的间距为10～100μm;

(2)在具有微米级阵列的铝片表面，采用阳极氧化法制作出纳米孔阵列，纳米孔阵列中孔深、孔径和阵列中各孔之间的间距为10～100nm;

(3)以具有微米级阵列和纳米孔阵列的铝片作为模板，采用纳米压印方法将铝片的双微观结构转移到聚合物薄膜上，经过保温，再降到聚合物的玻璃转化温度以下，降温过程中保持压力；

(4)分离铝片和聚合物薄膜，得到具有双微观结构的超疏水表面。

5.根据权利要求4所述的制作具有双微观结构的超疏水表面的方法，其特征在于：所述步骤(2)中，阳极氧化在0℃~4℃进行。

6.根据权利要求4所述的制作具有双微观结构的超疏水表面的方法，其特征在于：所述步骤(3)中，纳米压印的温度高于聚合物的玻璃转化温度，纳米压印的压力为0.5～5MPa。

200510019857.9权利要求书第2/2页

3

7.根据权利要求4所述的制作具有双微观结构的超疏水表面的方法，其特征在于：所述步骤(3)中，聚合物薄膜是热固性的聚合物薄膜。

8.根据权利要求7所述的制作具有双微观结构的超疏水表面的方法，其特征在于：所述热固性的聚合物薄膜是聚甲基丙烯酸甲酯、或聚碳酸酯或聚乙烯醇或聚酰亚胺或聚二甲基硅氧烷。

200510019857.9说明书第1/8页

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具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法

技术领域

本发明涉及