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- 2026-03-03 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号CN101826545B
(45)授权公告日2013.05.01
(21)申请号201010129539.9
(22)申请日2010.03.03
(30)优先权数据
61/209,1232009.03.03US
12/692,7982010.01.25US
(73)专利权人旺宏电子股份有限公司
地址中国台湾新竹科学工业园区力行路16号
(72)发明人吕函庭
(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021
代理人汤保平
(51)Int.CI.
HO1L
HO1L
27/24(2006.01)27/115(2006.01)
HO1L21/82(2006.01)
HO1L21/8247(2006.01)
(56)对比文件
CN1691339A,2005.11.02,全文.
US2004124466A1,2004.07.01,全文.审查员柴春英
权利要求书3页说明书12页附图21页
(54)发明名称
集成电路自对准三度空间存储阵列及其制作方法
(57)摘要
BCN101826545一种三度空间存储装置,其包含利用绝缘材料
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