化工生产过程控制系统中的抗干扰设计.pdfVIP

l38 化 工 自 动 化 及 仪 表 第 38卷 化工生产过程控制系统 中的抗干扰设计 马 允，胡晓嵬 (淮南联合大学 化工系 ，安徽 淮南 232038) 摘要 ： 介绍 了一种化工生产过程控制系统 中的抗干扰设计方法。该方法结合 了动态矩 阵控制算法和改进 的扰动观测器算法。理论分析和焙烧ZrO 仿真实验表明，该方法的控制效果 明显优于常规 的 PID控制 ，能有效 地抑制扰动 ，具有较强的鲁棒性和 自适应能力。 关键词 ： 时滞 ；抗干扰 ；动态矩阵控制；扰动观测器 中图分类号 ：TP273 文献标识码 ：A 文章编号：1000—3932(2011)02—0138-04 在现代化工生产过程 中 ，需要控制的参数是 ，，()：∑Gi5u(一i) (1) 多种多样的，但主要是压力 、流量、液位 、温度和成 上式 中为 Au(k—i)=“(k—i)一 (k—i一1) 分的控制。传统的化工生产过程主要采用 PID控 为 (k—)时刻作用在系统上的控制增量。 制方法，但是对于具有强耦合、大时滞 ，并存在多 在给定 的输入控制增量 AU(k)=[△u(k)， 种干扰的化工过程 ，PID控制方法 明显存在动态 △“(k+1)，…，△ (k+M一1)r作用下，系统未 性能差 、稳定性和鲁棒性不足等 问题… 。针对这 来时刻的输出预测值为： 些问题 ，采用 由动态矩阵控制算法与改进 的扰动 y(k+1)=y0(k+1)+AAU() (2) 观测器算法结合 的策略，可以对化工生产过程 中 存在的多种内外部扰动有较强的抑制能力 ，并能 式 中Y(k+1)为 k时刻有 au()作用时未 处理过程中的时滞及耦合问题。 来P个时刻的预测模型输出矢量 Y(+1)=[多 1 动态矩阵控制 (k+1)…多(k+P)r；Vo(k+1)为k时刻无 AU 动态 矩 阵控 制 (DynamicMatrixControl， (k)作用时未来 P个时刻的输出初始矢量 y0(k+ DMC)是一种基于阶跃响应 的预测控制算法 (图 1)=[Y。(k+1)…Y。(k+P)]；A为动态矩阵。 1)，适用于有时滞和开环渐进稳定的非最小相位 Vo(k+1)是 由k时刻以前加在输入端的控制 系统。该算法包括 3个部分 ：模型预测、反馈校 增量产生的，假定从 (k—N)到 (k一1)时刻加入的 正和滚动优化 。 控制增量分别为：Au(k—N)，Au(k—N+1)，…， Au(k一1)，而在 时刻 一N一1以前的控制增量 d 为零 ，写成矩阵形式 ，将控制增量化为全量形式 ， 并注意到 “(一N一1)=0则有：