在粗糙基片上成膜的物理模拟.pdfVIP

　第7 卷　第4 期　　　　　　　　　　　　　　材　料　科　学　与　工　艺　　　　　　　　　　Vol.7　No.4 　1999 年12 月　　　　　　　　　　　　　　MATERIAL SCIENCE TECHNOLOG 　　　　　　　　　　　Dec.　1999 　　文章编号:1005-0299(1999)04-0054-04 在粗糙基片上成膜的物理模拟 夏　风, 钱晓良, 刘光葵, 孙尧卿 (华中理工 学材料科学及工程学院, 湖北 武汉 430074) 摘　要:用射频溅射法在粗糙基底上制备了ZrO 膜, 模拟了在该种条件下膜的表面形貌、空腔的形 2 成规律, 提出了在粗糙基底上镀制性能均匀、稳定薄膜的对策. 关键词:粗糙度;薄膜;ZrO ;基片 2 中图分类号:TG155.5　　　文献标识码:A　　 Physic model for growing film on rough substrate XIA Feng, 　QIAN Xiao-liang, 　LIU Guang-kui, 　SUN ao-qing (Department of Material Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) Abstract:ZrO thin solid films were deposited on rough substrate with radio frequency spattering.The growth of 2 film on the condition wasmodeled to illustrate how the morphology of film and voids between substrates wereformu- lated.A strategy was proposed for growing even and relible film on rough substrates. Key words:roughness;thin film;ZrO2;substrate 　　制备固体功能薄膜的现代方法很多,它们的 体氧化物燃料电池的ZrO 电解质膜要淀积在多 2 共性为:在基片上生长膜, 膜由薄变厚, 基片既是 孔的(因而也是粗糙的)电极上.关于在粗糙基片 膜的支撑体,也是膜的生长条件.膜的质量难免受 上成膜的理论研究明显不足, 在这方面的工作因 [1] 基片表面形貌的影响 .在制备薄膜的实践中,一 而是极为有意义的. 般使用光洁度高的基片, 膜越薄, 基片光洁度越 [2] 1　膜的制备 高 ;对粗糙的基片则尽量回避,但在某些情形下 则回避不了,例如薄膜型极限电流氧传感器和固 　　在TC-450型射频溅射仪上制膜,溅射室真 收稿日期:1999-08-08 基金项目:国家自然科学基金项目 作者简介:夏风,, 武汉华中理工 学材料学院材料科学及工程研究所. 第4 期　　　　　　　　　　　　夏　风, 等:在粗糙基片上成膜的物理模拟　　　　　　　　　　　　　　　　 ·55 · -3 空度为 10 Pa, 工