界面作用下高分子共混物薄膜相形态发展过程的AFM的探究.pdfVIP

2003年全国高分子学术论文报告会 棚q 2003年10月9—14日 界面作用下高分子共混物薄膜相形态发展过程的AFM研究 宗骐谢续明 (清华大学化工系高分子研究所，北京100084) 过去的几十年中，两组分聚合物共混物本体中相形态、相分离等方面的研究已 经取得了极大的进展。但是薄膜条件下，由于基板的强作用，对于聚合物复杂体系，有很 多区别于通常在本体中的新现象正被不断发现，深入研究基板与共混物之间的相互作用，认 清薄膜中聚合物分子在基板作用及维数受限条件下的动力学行为极其重要。本文选用聚苯乙 烯Os)／聚甲基丙烯酸甲酯(卧nI^)共混体系，采用AFM研究了退火过程中玻璃基板作用下极 性高聚物为低组分的共混物薄膜相形态发展过程。 行，样品采用AFM进行观测。刻蚀处理是选择对PS溶解性较好而不溶PMMA的环己烷， 在室温下将样品放人环己烷中浸泡10rain后将其取出。 ％ 定在图1(a)和00)中分散相和连续相的组分，采用环己烷刻蚀样品表面Ps，得到表面的组分信 息。未退火样品经环己烷刻蚀后粒子状表面仍然保持(图l(e))，说明《图1(a))中的粒子状分 散相为PMMA富集相，而连续相为PS富集相。薄膜退火5min样品经环己烷刻蚀前后表面 PMMA富集樵，连续相为Ps富集相。未退火时表面形貌为分散相PMMA略高于连续相Ps， 这种在溶剂快速挥发成膜过程中所形成的表面高低起伏主要是由PMMA和Ps在溶剂THF 中的溶解度差异所决定的，即在THF溶剂中溶解性稍差的PMMA富集相固化时，在THF 中溶解性较好的PS富集相仍可流动，导致Ps固化时的高度将会低于PMMA富集相。退火 初期粒子状表面形貌迅速转变为凹坑状，这是由于一方面凸起的PMMA富集相对玻璃基板 具有良好的润湿性，向玻璃基板界面选择性聚集，另一方面具有较低表面自由能的组分PS 向聚合物一空气界面富集所导致的。 逐渐长大，凸起的部分逐渐粗化凝聚(图2(a)和(b))。样品经环己烷刻蚀后，表面形貌特征并 没有较大改变，但是表面凸起的高度却有不同程度的降低{图2(c)和(d))·这说明(图2(a)和 (b))AFM照片中观察到的凸起状分散相为Ps的富集相，连续相为PMMA富集相。 根据对PS／PMMA(70／30)薄膜退火过程的AFM观测结合对样品表面选择性溶剂刻蚀，我 们发现相形态发展过程分为两个阶段，退火初期在界面作用下PMMA向玻璃基板界面聚集， Ps向薄膜表面聚集，导致表面形貌由粒子状转变为凹坑状；而在退火中期及后期，则主要是 表层的PS富集相在PMMA富相层上反润湿的过程。由于共混物中极性相对较大的高聚物组 分PMMA相对于极性较小的Ps组分对玻璃基板具有更好的润湿性，所以在观察 F315 !!坚±全璺壹坌±堂查塑盎坚生全 垫塑!竺!±!!!!二!!! PS／PMMA(70／30)薄膜退火过程中发现，其最终相形态显示占低组分的PMMA发展成为连续 相，而占多组分的PS成为分散相。 参考文献 et Xiea1．．J．Colloid＆InterfaceSci．2001，234(1)，24 1．Xu．Ming Acta etaL 2．QiZong Polym．Sin．2003，2，186—191 致谢 本工作得到国家自然科学基金(项目批准号和重大研究计划“理论物理学及其 交叉科学若干前沿问题”子课题(项目批准号资助 DEPENDENCEoFSURFACE INVESTIGATIoNoFSUBSTRATE THINFⅡ。MBYAFMCoMBINED MoRPHoLoGYOFPS／I’ⅣD，IABLEND WITHSELECTⅣEDISSOLUTIoN ZoNG Oi．XIEXuming (AdvancedMaterials