TiO-%2c2-纳米线阵列生长机理地研究.pdfVIP

2870 功 能 材 料 2004 年增刊 （35 ）卷 TiO2 纳米线阵列生长机理的研究* ∗ 左 娟，孙 岚，赖跃坤，聂茶庚，林昌健 （厦门大学化学系，固体表面物理化学国家重点实验室，福建 厦门 361005 ） 摘 要：采用两步氧化法制备了多孔氧化铝模板 影响。 （AAO ），并利用 AAO 结合用电化学诱导溶胶－凝 2 实 验 胶法制备了锐钛矿型的 TiO2 纳米线阵列，探讨了形 成TiO2 纳米线阵列的生长机理。发现TiO2 纳米线是 多孔氧化铝模板 （AAO ）用 99.99% 的铝片采用 由Au 基底沿着孔洞逐步向上生长，直接生成纳米线， 两步氧化法制备[8] 。电解液采用4%H C O ·2H O(20℃、 2 2 4 2 因而可以通过控制氧化铝模板的尺寸和电化学沉积 40V 、5h) ，制得平均孔径60nm 的AAO 。然后采用电 的时间来控制纳米线的长径比。 化学诱导溶胶-凝胶法对多孔氧化铝模板进行电沉 关键词：多孔氧化铝模板；TiO2 纳米线阵列；生长机理 积。首先将钛粉溶解在30% 的过氧化氢和浓氨水溶液 中图分类号：O646 文献标识码：A 中，得到一黄色溶胶，加热除去多余的过氧化氢和浓 文章编号：1001-9731 （2004 ）增刊-2870-03 氨水。然后加入 4mol/L 的硫酸得一红色凝胶，加入 1 引 言 约 145m mol/L 的KNO3 。射频溅射上金的模板作工作 电极，饱和甘汞电极作参比，铂电极作辅助电极，恒 纳米尺度的TiO2 由于其在精细陶瓷、环境涂料、 电位沉积。样品在 300 ℃、450 ℃下和空气、氢气气 屏蔽紫外线、半导体材料、光催化材料、光电转换材 氛中煅烧，获得所需样品。 料和自洁杀菌玻璃、陶瓷、织品材料等方面的重要应 在0.5 mol/L NaOH 溶液中溶去氧化铝模板，所 用，近年来倍受人们的关注，已经成为国际上的一个 得样品真空喷金进行SEM （LEO 1530 型）形貌观察。 研究热点。高度取向的纳米阵列结构由于其更大的比 将沉积TiO2 纳米线的样品研磨后在0.5 mol/L NaOH 表面积和规整的排列结构，具有比无序的纳米材料更 溶液中浸泡 24h ，让AAO 充分溶解，经超声清洗后 加优异的性能[1~3] 。目前，以TiO2 纳米粉体和纳米膜 进行 TEM （JEM-100CXII 型）表征。用 STA 409EP 的研究比较普遍，而有关 TiO2 纳米线阵列的报道， 进行热重和差热分析。用Renishaw R 1000 型拉曼谱 [4] 仪测量拉曼光谱。 尤其是其性能的报道较少 。 在诸多制备 TiO2 纳米阵列材料的方法中，多孔 3 实验结果和讨论 氧化铝模板法最为普遍。已经报道的在氧化铝模板中 制取 TiO [4] 2 纳米线的方法主要有溶胶-凝胶法 、TiCl3