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种异构体的混合物,未做分离,但可以预计取代基的位阻效应将影响异构体的组成。
基)酞菁钯(铜)易溶于二氯甲烷、氯仿、甲苯等溶剂,在乙基环己烷、乙基溶纤剂等溶剂
(可用于CD-R旋涂法生产工艺,满足不浸蚀聚碳酸酯类基板,有适当的蒸气压等条件)中
的溶解度也达到了2wt%,将这两个物种用于CD.R旋涂法生产工艺的试验正在进行中。
(4)因为连接酞菁环和取代基苯环的醚键是弯曲的,取代基的苯环不直接参与酞菁环
的共轭,而主要是醚键的氧参与共轭。
(5)溶剂对^…的相对较小的影响可用溶剂分子给电子能力对中心金属的作用解释。
本文报告的使a位四(2,4一二叔丁基苯氧基)酞菁钯的^一稍有增加的溶剂顺序与溶剂分子
的给电子能力的增大顺序一致,这种给出电子的作用稍许减弱了酞膂环上的共轭电子向中心
金属的配位,而这种配位使得^~蓝移。
(6)固态膜的吸收峰明显展宽.膜的结构参数尚待测定。
参考文献
f愠熹数字光盘和光存储材料上海 L海科学技术出版社.1992:i
2邱玲,沈玉±,许曹君,沈继峰Lft兴发可溶性氖钒酞菁的台成且取代基位置对其性质的影啊有机化学1993:1【3:490~495
3 7arvisMolecotarAssocmtlon
Ar出urWSDow曲dN.Lynn andMonolayerFonnatmnorSduMePhthalocyanine
CompoundsJAntCkemSoct984;1064706、4711
Phthalomtnle
4 SAITO,andShltlsakⅣSHRAISHI vAthOrgmfic
HaruhikoTOMODA、Shojiro SynlheslsofMetallophthaJocyaninesfrom
CHEMISTRYLLETERS.1983:313~316
StroBgBases
八辛氧基取代酞菁钴(II)配合物
的合成及性质研究4
方昕李邦玉王俊东江舟杨素苓陈耐生黄佥陵
福州大学功能材料所350002电话:059I一7893457
4
摘要 本文采用在强有机碱1,8.二氨杂双环f5o]十一一7烯(DBu)存在下的正戊醇溶剂中,利用“分子碎
片”(3,6.二辛氧基邻苯二腈)与金属离子Co:+通过“模板反应”台成了尚未见报道的八辛氧基酞菩钻(II)配
合物。并对其进行了元素分析和红外光谱分析i测定了配合物的电子吸收光谱及其热稳定性,讨论了这些
性质与其结构之问的关系。
关键词八辛氧基酞菁钴(f【)合成电子光谱热稳定性
酞菁类配合物由于其具有I兀。电子共轭体系的结构特征而具有
许多特殊的光、电、磁和催化性能IfI。在酞菁环周边引入取代基
团,可大大改善其溶解性【“,同时可使其紫外-可见电子吸收光谱
中Q带最大吸收峰移动,这对其作为光、电材料的研究和应用都
具有非常重要的意义。本文以3,6.二辛氧基邻苯二甲腈为原料,
参照日本友田睛彦合成无金属酞菁的方法口l,采用DBU液相催化
图l(OctO),cCo
法合成了周边烷氧基取代的l,4,8,11,15,18,22,25一八辛氧基酞菁钴
·福建省科委资助课题.
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