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头孢西丁合成工艺的改进.pdf
2010年第 17卷第 4期 化工生产与技术 ChemicalProductionandTechnology ’25·
头孢西丁合成工艺的改进
王艳峰 吴 国颖 。 裴 文 p
(1.浙江工业大学化学工程与材料 学院,杭 ’l,l310014;2.巨化集团公司技术中心,浙江 衢州 324004)
摘要 以头孢烷酸为起始原料 ,经过酰胺化 、甲氧基化 、去 乙酰化 、氨 甲氧酰化 4步反应得
到抗 生素药物 头孢 西丁。目标化合物经 IR和 H—NMR谱确证 。改进后 的工艺路 线操作 简
便 、节约生产成本 ,适合_T-业化的生产。
关键词 头孢西丁;头孢烷酸;次氯酸叔丁酯 ;固定化青霉素酰化酶
中图分类号TQ465.1 文献标识码 A DOI10.3969~.issn.1006—6829.2010.04.0008
头孢西丁 (cefoxitin),化学名为 (6R,7S)~3一氨基 丁酯代替了Ⅳ_溴代丁二酰亚胺 (NBS);在去乙酰化
甲酰基氧 甲基一7一甲氧基一8~氧代一7—2 (『2一吩噻基) 反应 中首次引入 了酰化酶代替有机溶剂 ,避免 了文
乙酰氨基1_5一硫杂一1一氮杂双环 [4.2.0]辛一2一烯一2一 献 8『1中采用低温条件和各种有机溶剂的使用 ;还对
甲酸 ,由美 国Merk公司研制 。1994年上市。头孢西 其 中的某些溶剂和操作进行 了较大的改进 ,避免 了
丁由链霉菌产生的 甲氧头孢菌素 C经半合成制得 传统工艺中贵金属催化剂的使用和需要硅胶纯化的
的一类新型抗生素。由于抑制细菌细胞壁合成而杀 步骤 。
灭细菌 ,且由于头孢西丁的结构特点 ,使其对细菌产
1 实验部分
生 的 一内酰胺酶具有很高的抵抗性 ,因而对卢一内
酰胺酶稳定的头孢西丁具有巨大的市场潜力 _3l。 1.1 仪器和药品
目前头孢西丁的合成路线主要有 3条 : 仪器 :RY一1熔点仪 (温度计未经校正),Waters
11以头霉素 (cephamycinC)为原料 ,先对其羧酸 2487高效液相色谱仪 ,Paragon1000傅立 叶变换红
侧链上的氨基进行修饰 ,然后对其 四元环进行修饰。 外光谱仪 ,landa25型紫外可见光度计 ,PE341旋光
但是这一类反应都存在着工艺繁琐 、需要贵金属催 计 .NicoletINOVA一500MHZ核磁共振仪 ,HP5989B
化剂等缺点 .故一直没有满足工业化大生产的需求。 质谱仪。
21以头孢噻吩酸或钠盐为原料 ,先修饰 7一氨基 次氯酸叔丁酯为 自制 ,其他所用试剂为化学纯。
头孢烷酸 (7一ACA)的C3位上的侧链 ,然后修饰 C7 1.2 合成过程
位氨基侧链 :以头孢噻吩酸或钠盐为原料 。先修饰 1.2.1 头孢噻吩的制备
7一ACA的C7位氨基侧链 。然后修饰 C3位上 的侧 将 100g (0.367mo1)头孢烷酸 ,95mL乙酸乙
链 。这种方法虽然原料价廉易得 ,但是反应过程 中需 酯 .500mL蒸馏水加人到三 口反应瓶 中,升温 。缓慢
要使用到分子筛且反应步骤一般都较长 ,故也一直 加入 NaHCO,搅拌溶清 ;冷却 ,开始滴加 66.6g
没有能够工业化大生产。 (0.415mo1)2一噻吩乙酰氯 ,滴加时间控制在 3h,滴
3)以甲氧基头孢霉素 (7-MAC)为原料 ,先修饰 加完毕后加入少量 NaHCO3使其 pHi7,再加入适
7一MAC的C7位氨基侧链 。然后修饰 C3位上的侧 量 的EDTA、Na2S2O5、NaCI,冷却至 0℃,过滤 ,用 乙
链 。这类方法虽然合成步骤较简化 ,但是 7一MAC价 酸乙酯冲洗滤饼
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