相移光纤光栅的制作和特性.pdfVIP

第27卷 第6期 大 学 物 理 实 验 Vol_27No．6 2014年 12月 PHYSICALEXPERIMENT OFCOLLEGE Dec．2014 文章编号：1007—2934(2014)06—0010-02 相移光纤光栅的制作和特性 林继平 ，张子云 (安徽大学，安徽 合肥 230601) 摘 要 ：在光纤光栅的刻蚀平台中引入精密移动电机 ，控制相位掩模板的移动，从而在光纤光栅的 刻蚀过程中，在光栅的固定位置引入相移量，采用此简单易行的方法制作出了多种相移光纤光栅，分析 所刻光纤光栅的光谱曲线 ，符合理论分析和设计的要求。 关 键 词 ：相移光纤光栅；掩模板 ；相移 中图分类号 ：TN25 文献标志码：A DOI：10．14139／j．enki．co22—1228．2014．06．004 随着光纤光栅技术研究的深入，普通的光纤 实现… 。文中在 已有的光纤光栅制作平台上， 光栅 已经不能满足所有光纤光路的需求，各种特 利用精密移动平台对普通掩模板的移动控制，实 殊结构的光纤光栅的研究和应用取得了很大的发 现对应相移量的引入 。 展，如切趾光纤光栅、啁啾光纤光栅、倾斜光栅和 掩模法是刻蚀光纤光栅稳定可靠的方法，如 相移光纤光栅等 。J。其中相移光纤光栅是指在 图1所示，利用光栅相位掩模板的特性，控制掩模 光纤布拉格光栅(FBG)中间的某个位置引入折射 板的槽型、槽深等参数，使得固定波长的紫外激光 率调制的突变，产生折射率调制在此位置有固定 透过掩模板后，衍射光的零级被很好的抑制住 相位突变的两个光纤光栅，典型的相移量有仃／2 (一般要求0级效率低于5％)，能量主要分布在 和7r相移等。这两个光栅类似于波长选择Fabry— ±l级衍射光上，±1级衍射光在掩模板下面形成 Perot谐振腔，允许谐振波长的光注入到FBG的 干涉场分布，待刻蚀 的光敏光纤放置在这个干涉 阻带，从而在阻带中打开一个线宽极窄的投射窗 场中，使得光敏光纤上形成折射率沿着光纤方向 口。相移光纤光栅具有高质量的波长选装性，插 的调制，即形成光纤光栅结构。所刻蚀 的光纤光 入损耗低、并且与偏振态无关，因而受到了越来越 栅周期等于掩模板光栅期一半，和入射光束及角 广泛的关注。特别是在全光通信网络中有重要的 度无关，因此刻蚀效果稳定可靠。 应用，主要用于 窄带滤波器、密集波分复用 (DWDM)系统中做解复用器等。同时，其在高精 度温度压力等传感器领域也具有很大的应用 前景 -。 1 相移光纤光栅的制作简介 图1 相位掩模板光路示意图 相移光纤光栅的制作 目前主要有两次曝光法 2 方案设计和实验 等二次处理方法和相移型相位掩模板法等。二次 处理的方法由于需要对光敏光纤进行二次曝光或 为了在 FBG中引入合适的相移量，文中在掩 机械、热处理，精度难以控制而且相移点前后的折 模法光纤光栅制作平台的基础上，利用精密移动 射率调制的一致性也难保证 ；相移型相位掩模法 电机，精确控制掩模板的微小移动，使得在待刻蚀 的精度依赖于掩模板本身的精度，因此掩模板制 的光敏光纤上写入的光纤光栅产生对应的相位突 作的要求很高，需要成本比较高的电子束刻蚀等 变量，如图2所示。刻蚀过程中，先固定系统，移