低损耗氟化物光纤原料纯化.pdfVIP

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低损耗氟化物光纤原料纯化 罗其荣昝菱钟家柽黄玲 (武汉大学红外材料研究室,武汉,430072) 摘要本文介绍了一种NH。·HFz的制备方法,并 ,重塑: :团 用重结晶和升华的方法对制备的NH.·HFz进行纯 ([—r—1—百T}E 化。用x衍射和lR光谱方法对其物理性质进行定性 憧量声辛电广5巴三竭:t:挈 分析。研制的NH.·HFz经XRD鉴定其分子结构为 。 A B 立方晶体。 图1升华装置图 关键词纯化低损耗氟化物光纤原料 1 ofsublimation Fig Diagram A.加热电炉,B.冷凝区, c.反应物, 1引言 D.生成物,E.真空系统,F.真空接头 在当今众多的新型材料中,氟化物光纤材料以它 2.2.2Abderhalden干燥枪加热升华法 将待升华的NHt·HFz原料,置于石英干燥枪内 的10_2~10qdB/km超低损耗值,赢得国内外科学 (装置见图2),并利用在外套管中回流的液体(温度 家的重视n]。要得到0.01dB/km的超低损耗氟化物 通讯光纤,原料中各种杂质含量必须降至ppb级的水 约230C),加热样品,冷凝处保持在25℃~40℃,抽 真空升华约4~5h时,可得到NI-I.·HFz结晶产品。 平o‘3]。而NH.·HFz作为制备氟化物的一种良好氟 将升华后的产品NH··HFz进行了XRD·IR 化剂,它在氟化物原料的制备、玻璃熔炼以及降低光 光谱分析. 纤中水和氧的含量方面起着十分重要的作用。因此关 键的问题在于NH。·HFz的纯化和升华过程无污染, 才能达到提纯的目的。 2实验部份 2.1 NHt·HF2的制备和置结晶 将一定量的NH.F溶于尽可能少的高纯水中,加 热溶解后,缓慢加人40%HF,在不断搅拌条件下,控 2 ofsublimation Fig Diagram 制pH=1,待冷却后抽滤,在红外灯下烘干,可得到含 A.反应物,B.生成物,E.接真空系统 结晶水的NH··HF·XHzO,然后将制备的产品重结 1.加热剂,2.加热剂冷凝菅 晶二次。 3.生成物冷凝管,4.干燥剂 2.2 NH.·HF的真空升华 3结果与讨论 2.2.1管式电炉加热升华法 3.1实验窖器材料的选择及保护 将重结晶干燥的NH·HF2称取30~50克,放人 管孟电炉中进行真空升华(装置见图1),可得到高纯 的NH·HFz产品,产率为90%,工艺条件:升华温度: NHt·HFz受热易分解放出I-IF气体,给实验容

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