DRF-J45型镓单晶炉的开发与设计 The Development and Gallium Single Design of the DRF-J45 Crystal Furnace.pdfVIP
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DRF-J45型镓单晶炉的开发与设计 The Development and Gallium Single Design of the DRF-J45 Crystal Furnace
材料制备工艺与设备 电 子 工 业 专 用 设 苗 -
DRF—J45型镓单晶炉的开发与设计
袁长路,李伯军,李 杰,李留臣
(江苏华盛天龙光电设备股份有限公司,江苏金坛 213200)
摘 要 :当前镓提纯方法大部分采用电解法 ,电解法生产 出的镓晶体纯度不高,常常形成个别杂
质元素超标。为了提 高其晶体纯度 ,需采用晶体提拉法来进一步弥补并提升镓晶体提纯工艺方
法。从分析镓单晶炉生长的工艺特点出发 ,简要介绍镓单晶生长设备的设计思想以及新近开发设
计的新型镓单晶炉的机械结构及 电气控制系统
关键词 :镓单晶炉;工艺特点;轴冷系统 ;机械结构 ;电气控制
中图分类号 :TF806 文献标识码 :A 文章编号 :1004—4507(2012)07.0040—04
TheDevelopmentandDesignoftheDRF-J45
Gallium SingleCrystalFurnace
YUANChang-lu,LIBojun,LIJIE,LILiucheng
(JiangsuHuashengTianLongPhotoelectricCo,LtdJintan213200,China)
Abstract:Currentlymostofthegallium purificationmethodusingelectrolysis,themethodtoproduce
gallium crystalpurityisnothigh.Oftencauseexcessiveindividualimpurityelementsproblems.TObe
abletoimprovethepuriyt ofcrystal,weusethecrystalpullingmethodtofurthertocompensatefor
and enhancethegallium crystalpurificationprocess.Basedontheanalysisofthecharacteristicson
growthofgallium singlecrystalfurnaceprocess,briefintroducethedesignideasandthenew module’S
mechanicalstructureandelectricalcontrolsystemsoftheGallium singlecrystalgrowt hfurnace.
Keywords:Gallium singlecrystalfumace;Processcharacteristics;Axialcoolingsystem;Mechanical
structure:Electricalcontrol
镓是易熔合金的 良好组元 ,广泛应用于光 电 途 ,如 :制取化合物半导体砷化镓 、磷化镓 [2,31等 ,
行业。纯镓及其易熔合金可作核反应堆的热交换 也是锗和硅 的掺杂元素。在微波器件领域 内,砷化
介质。由于镓的液态温度范围很大,随温度升高体 镓是最有前途的半导体材料。为此,我们研制开发
积膨胀均匀,可作高温温度计 [4]或防火信号装置 了DRF—J45镓单晶炉,主要用于镓 晶体生产 。通过
等。用镓铝合金代替水银制造医用紫外线辐射灯, 提拉法生长方式,将 晶体的纯度提高到半导体产
能改善医疗效果。生产半导体材料是镓的主要用 业使用级别 。
收稿 日期 :2012—07—03
万方数据
● 电 字 工 业 董 用 设 备 材料制备工艺与设备
镓单晶生长工艺特点 2 镓 单晶炉总体设计
1.1镓 的主要性能特点 按照镓单晶体生长条件 ,该设备 由3大部分
镓是银 白色金属
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